[发明专利]一种自洁抗菌陶瓷釉及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种陶瓷，具体涉及一种自洁抗菌陶瓷釉及其制备方法。属于陶瓷技术领域。

背景技术

传统陶瓷以白色为主，釉面只采用硅酸锆起白色作用，并无其他功能，而且传统陶瓷釉面在放大镜下是凹凸不平的，使得污垢、细菌易于躲藏、繁殖；后来，在传统陶瓷烧制成品后，加入后期涂膜热处理，没有经过高温烧制，涂膜稳定性差，易剥落，最终失去了防污抗菌效果。针对上述问题，国内外研制出了各类具有优异抗菌性能的无机抗菌材料,被广泛应用于纤维、陶瓷、塑料、建材、涂料、搪瓷等各个领域。目前广泛研究的无机抗菌材料主要集中在金属Ag、Cu、Zn、Ti和一些稀有金属元素及其氧化物。目前的抗菌陶瓷主要是通过添加氧化钛、银、稀土元素或者麦饭石和远红外材料抗菌剂来实现杀菌作用。然而现有的抗菌陶瓷要么生产成本高不利于大范围推广使用，要么对热和光敏感，容易变黑影响浅色陶瓷的外观，最重要的是，抗菌效果均不够理想。

中国发明专利公开号CN101580342A，公开日2009年11月18日，发明创造名称：一种自洁抗菌陶瓷釉及其制备方法与陶瓷产品，该发明公开了一种自洁抗菌陶瓷釉及其制备方法与陶瓷产品，关键于含有Ti元素和Ag元素，具体组成为：SiO₂52～72％、Al₂O₃5～9％、CaO 6～10％、K₂O 2～6％、Na₂O 0.5～1.5％、ZnO 0.5～3％、Li₂O 1～3％、TiO₂4～8％、V₂O₅1～3％、Ag₂O₃1～5％。虽然该发明陶瓷釉釉面平整度高，晶质细致精密、光洁度好、无针孔、玻璃感极柔极佳，触摸感觉非常平滑，并且达到超平滑釉面的自洁抗菌的永久效果，然而存在如下不足：Ti元素和Ag元素是以氧化物形式存在，抗菌效果在时效和菌种均有限。

发明内容

本发明的目的是为克服上述现有技术的不足，提供一种自洁抗菌陶瓷釉。

本发明还提供了该陶瓷釉的制备方法。

为实现上述目的，本发明采用下述技术方案：

一种自洁抗菌陶瓷釉，包括以下重量份的组分：水20～90份、SiO₂30～65份、Al₂O₃16～28份、CaCO₃12～33份、B₂O₃1～4份、Na₂SiO₃1～9份、ZnO 1～6份、CuO 1～4份、MnO1～4份、MgH₂1～3份、氢氧化锗0.04-5份、氢氧化镓0.08-8份、纳米氧化铟锡0.5-3份、助剂1-10份。

所述的自洁抗菌陶瓷釉，包括以下重量份的组分：水30～60份、SiO₂35～55份、Al₂O₃20～22份、CaCO₃14～30份、B₂O₃1.5～3.5份、Na₂SiO₃5～8份、ZnO 3～5份、CuO 2～3份、MnO 1.2～3.8份、MgH₂1.5～2.5份、氢氧化锗0.1-4.35份、氢氧化镓0.2-5.65份、纳米氧化铟锡1-2.82份、助剂2-8份。

所述的氢氧化锗由二氢氧化锗和四氢氧化锗组成，二氢氧化锗和四氢氧化锗的质量比为1:1～5

所述的助剂为所述助剂包括稳定剂、抗氧剂和分散剂。

其中所述稳定剂是KBr，NaBr，黄血盐，赤血盐，硫酸氢钠。

所述抗氧剂是对苯二胺，二甲基对苯二胺，对苯二酚。

所述分散剂是硅烷偶联剂。

一种自洁抗菌陶瓷釉的制备方法，包括如下方法步骤：

(1)向加入助剂蒸馏水溶液中，依次添加余下组分，常温下，超声分散，充分溶解后，后将其倒入球磨罐中，以80-120rpm转速，球磨3-4h，得混合料；

(2)将混合料在惰性气体保护下，900～1000℃下熔炼1～1.5小时，接着在1300～1500℃下，熔炼1～2小时，然后水淬，得到块状釉料；