[发明专利]一种量子棒、量子棒制作方法和显示面板在审
申请号: | 201610068988.4 | 申请日: | 2016-02-01 |
公开(公告)号: | CN105511150A | 公开(公告)日: | 2016-04-20 |
发明(设计)人: | 杨久霞;白峰 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 李相雨 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 量子 制作方法 显示 面板 | ||
1.一种量子棒,其特征在于,包括核以及壳,所述壳覆盖所述 核;
所述核和/或壳上还覆盖有高导电性材料层。
2.根据权利要求1所述的量子棒,其特征在于,所述高导电性 材料是导电聚合物材料。
3.根据权利要求2所述的量子棒,其特征在于,所述导电聚合 物材料是聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)PEDOTPSS、聚对 苯撑乙烯PPV、聚噻吩、聚硅烷、三苯甲烷、三芳胺、吡唑啉聚乙炔、 聚吡咯、聚苯胺、聚苯撑、聚苯撑乙炔、聚双炔中的任意一种或多种。
4.根据权利要求1所述的量子棒,其特征在于,所述核和/或壳 包括CaS、CaSe。
5.一种量子棒制作方法,其特征在于,包括:
在母版上制作纳米晶反应腔;
在纳米晶反应腔内形成覆盖有高导电性材料层的纳米晶量子棒 的核和覆盖有高导电性材料层的壳。
6.根据权利要求5所述的量子棒制作方法,其特征在于,所述 形成覆盖有高导电性材料层的纳米晶量子棒的核和覆盖有高导电性 材料层的纳米晶量子棒的壳的反应温度低于200℃。
7.根据权利要求5所述的量子棒制作方法,其特征在于,所述 纳米晶反应腔内形成覆盖有高导电性材料层的纳米晶量子棒的核和 覆盖有高导电性材料层的壳的步骤
包括:
将导电聚合物材料与离子液体混合,形成导电聚合物溶液;
将量子棒材料与所述导电聚合物溶液混合;
将量子棒材料与所述导电聚合物溶液的混合物搅拌分散,形成覆 盖有高导电性材料层的纳米晶量子棒的核和覆盖有高导电性材料层 的纳米晶量子棒的壳。
8.根据权利要求7所述的量子棒制作方法,其特征在于,所述 离子液体为1-乙基-3-甲基咪唑六氟磷酸盐、1-丁基-3-甲基咪唑六氟 磷酸盐、1-辛基-3-甲基咪唑六氟磷酸盐、1-乙基-3-甲基咪唑四氟硼酸 盐、1-丁基-3-甲基咪唑三氟甲基磺酸盐、氯化1-丁基-3-甲基咪唑盐 中的至少一种。
9.根据权利要求7所述的量子棒制作方法,其特征在于,所述 导电聚合物材料与离子液体的混合比大于等于1:9。
10.根据权利要求7所述的量子棒制作方法,其特征在于,所述 量子棒材料与所述导电聚合物溶液混合比固含量小于等于15%。
11.根据权利要求7所述的量子棒制作方法,其特征在于,所述 分散条件为以2.5m/s的线速度搅拌分散10min。
12.根据权利要求7所述的量子棒制作方法,其特征在于,所述 分散之前还包括预搅拌分散。
13.根据权利要求12所述的量子棒制作方法,其特征在于,所 述预搅拌分散条件如下:
搅拌转速小于等于100rpm,时间10min至30min。
14.根据权利要求5所述的量子棒制作方法,其特征在于,所述 在纳米晶反应腔内形成覆盖有高导电性材料层的纳米晶量子棒的核 和覆盖有高导电性材料层的壳的步骤是真空下进行的。
15.一种量子棒制作方法,其特征在于,包括:
在母版上制作纳米晶反应腔;
在纳米晶反应腔内形成纳米晶量子棒的核和覆盖有高导电性材 料层的壳。
16.根据权利要求15所述的量子棒制作方法,其特征在于,所 述在纳米晶反应腔内形成纳米晶量子棒的覆盖有高导电性材料层的 壳包括:
在反应中对纳米晶量子棒的壳的表面处理的步骤,使所述纳米晶 量子棒的壳覆盖有高导电性材料层。
17.根据权利要求15或16所述的量子棒制作方法,其特征在于, 所述在纳米晶反应腔内形成纳米晶量子棒的核和覆盖有高导电性材 料层的壳的步骤是真空下进行的。
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