[发明专利]一种基于自偏置共源共栅结构的跨导放大器有效
申请号: | 201610040317.7 | 申请日: | 2016-01-21 |
公开(公告)号: | CN105720936B | 公开(公告)日: | 2018-01-09 |
发明(设计)人: | 徐代果;胡刚毅;李儒章;王健安;陈光炳;王育新;刘涛;刘璐;邓民明;石寒夫;王旭 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第二十四研究所 |
主分类号: | H03F3/45 | 分类号: | H03F3/45;H03G1/00 |
代理公司: | 北京一格知识产权代理事务所(普通合伙)11316 | 代理人: | 滑春生 |
地址: | 400060 *** | 国省代码: | 重庆;85 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 偏置 共源共栅 结构 放大器 | ||
技术领域
本发明属于模拟或数模混合集成电路技术领域,具体涉及一种基于自偏置共源共栅结构的跨导放大器。
背景技术
近年来,随着集成电路制造技术的不断发展,对低功耗模拟集成电路的需要逐渐增加,为了适应低功耗的要求,电源电压进一步降低。针对这一趋势,为了保证放大器的工作性能,发展出来一些提高跨导放大器增益的结构,其中,自偏置共源共栅结构就是一种。在这种结构下,通过调节MOS管的衬底电压,改变MOS管的阈值电压,从而改变MOS管的跨导和输出阻抗,这样,跨导放大器就可以获得比常规结构更高的增益。传统结构下,如果需要改变MOS管的阈值电压,采用的方法包括使用低阈值管或为MOS管提供额外偏置电压,但这会增加工艺或者电路设计的复杂度;另一方面,传统的补偿方式,很难在放大器实现高增益的同时,提高单位增益带宽。因此,传统的几种结构,很难满足高性能跨导放大器的要求。
为了更详细的描述上述技术问题,本申请先来分析两种传统结构跨导放大器的工作原理和优缺点。请参考图1所示的结构1,其给出了一种传统两级跨导放大器原理图,由于当采用PMOS管作为输入管时,具有匹配性优良和低噪声等优点,所以在非高速低噪声应用的场合通常采用PMOS管作为跨导放大器的输入管。结构1中,输入信号VIP和VIN从PMOS输入管M1和M2的栅极输入,PMOS管M1和M2和NMOS管M3和M4都工作在饱和区,从而使得第一级放大器能提供较大的直流增益,第二级共源放大器由NMOS管M5和PMOS管M6构成,这种结构在保持一定增益的同时,能够提供较大的输出摆幅。电容CC和电阻RC构成一个RC补偿结构,使得放大器在保持稳定的情况下,能够获得一定的单位增益带宽。在图1所示的结构下,放大器增益表达式为:
Gain[1]=gm1,2·(ro2||ro4)·gm5·(ro5||ro6) (1)
图1结构的优点是电路结构简单,但是,本申请的发明人研究发现,由于采用RC补偿,要获得一个低频的左半平面零点需要很大的补偿电阻RC;同时,由于标准工艺下,电阻的阻值一致性较差,很难获得相对固定的左半平面零点。
请参考图2所示的结构2,其给出了一种自偏置共源共栅跨导放大器原理图,在结构2中,PMOS输入管M1、M2、M3和M4构成了自偏置共源共栅输入级结构,同时,由PMOS管M0、M8、M9和M10构成恒流源结构。该结构的特点在于,通过专门设置PMOS管M3和M4以及PMOS管M8和M10的衬底电压来改变其阈值电压,从而实现提高其输出阻抗的目的。下面分析其工作原理,以图2中输入级PMOS管为例,将PMOS管M1和M3的沟道宽度设计成和图1中PMOS管M1的宽度相同,同时将PMOS管M1和M3的沟道长度之和设计成和图1中PMOS管M1的长度相同,这样,图1中的输入管M1与图2中的输入管M1和M3所占版图面积相同。在图2所示的结构中,PMOS管M2和M4、M8和M9等其他几处自偏置共源共栅结构MOS管尺寸采用同样的设计方法,通过前面所提到的方法,使得PMOS管M3和M4的阈值电压小于M1和M2的阈值电压,分析半边电路,在一定的输入电压VIN/VIP之下:
VIN+|Vthp3|<VS3<VIN+|Vthp1|(2)
其中,Vthp3和Vthp1分别为PMOS管M3和M1的阈值电压,VS3为PMOS管M3的源极电压,如果设置合适的阈值电压和输入电压,使得式(2)得到满足,那么PMOS管M1和M3都可以工作在饱和区。
下面分析在式(2)得到满足的情况下,自偏置共源共栅结构的输出阻抗,其小信号等效电路图如图3所示,对其列节点KCL方程如下:
解上述方程可得:
Req=gm3·ro1·ro3+ro1+ro3≈gm3·ro1·ro3(4)
因此,图2所示结构的增益表达式为:
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