[发明专利]指纹成像单元及其形成方法

权利要求书

1.一种指纹成像单元，其特征在于，包括：

导光衬底，包括第一面、与所述第一面相对的第二面以及位于所述第一面和第二面之间的侧面；

设置于所述导光衬底侧面上的光源，用于产生入射光；

所述入射光入射所述导光衬底并在所述导光衬底内传播；

形成于所述导光衬底第二面上的多个网点，多个所述网点用于在接收到入射光时使所述入射光发生反射，以形成从所述导光衬底第一面出射的感测光；或者多个所述网点用于在接收到入射光时使所述入射光发生折射从导光衬底第二面出射，以使其他入射光形成从所述导光衬底第一面出射的感测光；

设置于所述导光衬底第一面中的感光器件，所述感光器件以所述导光衬底为衬底形成，用于将经手指反射形成的带有指纹信息的反射光信号转换为电信号。

2.如权利要求1所述的指纹成像单元，其特征在于，所述多个网点用于在接收到入射光时使所述入射光发生反射，以形成从所述导光衬底第一面出射的感测光；沿远离光源方向，所述网点的密度逐渐增大。

3.如权利要求1所述的指纹成像单元，其特征在于，所述多个网点用于在接收到入射光时使所述入射光发生折射从导光衬底第二面出射，以使其他入射光形成从所述导光衬底第一面出射的感测光；沿远离光源方向，所述网点的密度逐渐减小。

4.如权利要求1所述的指纹成像单元，其特征在于，在垂直所述导光衬底第二面的方向上，所述网点的尺寸在0.1μm到100μm范围内；在平行所述导光衬底第二面的平面内，所述网点的尺寸在0.1μm到100μm范围内。

5.如权利要求1所述的指纹成像单元，其特征在于，所述网点的形状为圆形或方形。

6.如权利要求1所述的指纹成像单元，其特征在于，所述网点包括凹坑或凸点。

7.如权利要求3所述的指纹成像单元，其特征在于，所述网点为凸点，所述网点材料的折射率大于所述导光衬底的折射率。

8.如权利要求7所述的指纹成像单元，其特征在于，所述网点的材料包括：氧化铟锡或氮化硅。

9.如权利要求1所述的指纹成像单元，其特征在于，所述网点为凹坑，所述凹坑通过刻蚀或激光加工的方式形成。

10.如权利要求9所述的指纹成像单元，其特征在于，凹坑状的网点通过激光加工的方式形成；所述网点的形状为圆形，所述网点的直径和深度在10μm到100μm范围内。

11.如权利要求9所述的指纹成像单元，其特征在于，所述凹坑状的网点通过刻蚀的方式形成；所述指纹成像单元还包括：覆盖所述导光衬底第二面的掩膜层。

12.如权利要求11所述的指纹成像单元，其特征在于，所述掩膜层的材料包括金属、抗酸膜或抗酸漆。

13.如权利要求1所述的指纹成像单元，其特征在于，所述指纹成像单元还包括贴付于所述导光衬底第二面的调节膜；所述网点为位于所述调节膜未连接导光衬底一面上的凹坑。

14.如权利要求13所述的指纹成像单元，其特征在于，所述凹坑通过转印的方式形成于所述调节膜未连接导光衬底的一面上。

15.如权利要求13所述的指纹成像单元，其特征在于，所述调节膜的材料包括：聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜。

16.如权利要求13所述的指纹成像单元，其特征在于，所述调节膜通过UV胶或光学胶贴付于所述导光衬底第二面。

17.如权利要求13所述的指纹成像单元，其特征在于，所述调节膜的厚度大于0.05mm且小于0.2mm。