[发明专利]一种制备三维石墨烯的方法有效
申请号: | 201610008722.0 | 申请日: | 2016-01-07 |
公开(公告)号: | CN105668555B | 公开(公告)日: | 2018-04-06 |
发明(设计)人: | 于贵;王华平;耿德超 | 申请(专利权)人: | 中国科学院化学研究所 |
主分类号: | C01B32/186 | 分类号: | C01B32/186 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司11245 | 代理人: | 关畅 |
地址: | 100080 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 制备 三维 石墨 方法 | ||
1.一种制备三维石墨烯的方法,包括如下步骤:
在氢气和氩气气氛中,通入碳源气体于衬底上进行化学气相沉积,沉积完毕后于所述衬底上得到所述三维石墨烯;
所述碳源气体、氢气和氩气的流量比为7.0:50:50至14.0:50:50;
所述化学气相沉积步骤中,温度为1000-1250℃。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:所述衬底为单晶硅、二氧化硅/硅、石英片或二氧化锆/硅;
所述单晶硅的厚度为250-500微米;
所述二氧化硅/硅中,二氧化硅层的厚度为250-400纳米;硅层的厚度为250-500微米;
所述石英片的厚度为1-3毫米;
所述二氧化锆/硅中,二氧化锆层的厚度为10-50纳米;硅层的厚度为250-500微米。
3.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于:所述碳源气体为甲烷、乙烯或乙烷;
所述碳源的流量为7.0-14.0sccm;
所述氢气的流量为50sccm;
所述氩气的流量为50sccm。
4.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于:所述化学气相沉积步骤中,时间为2-8小时;
压强为0-1.01×105Pa,但不为0。
5.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于:所述方法还包括如下步骤:
在所述化学气相沉积步骤之前,将所述衬底进行退火。
6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于:所述退火步骤中,退火的气氛为氢气和氩气气氛;
氢气的流量为10-100sccm;
氩气的流量为10-100sccm;
退火的时间为10-60分钟。
7.权利要求1-6中任一所述方法制备得到的三维石墨烯。
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