[发明专利]一种低损耗光子晶体光纤的制备方法

权利要求书

1.一种低损耗光子晶体光纤的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

制备一根高纯芯棒，经外喷、烧结形成中心石英层，高纯芯棒进而形成中心芯棒，

将高纯芯棒用卡盘夹好，放置在沉积柜中，沉积柜旁有排气装置，外有测压元件，通过喷灯将四氯化硅、氧气、氢气、氩气、氮气喷出，在氢氧焰燃烧的高温下，四氯化硅和氢氧焰中的水蒸气发生化学反应生成二氧化硅粉末，沉积到高纯芯棒上；

以所述中心芯棒为靶棒，在其外围沿圆周方向均匀放置若干第一靶棒，在外喷达到沉积要求后，抽出第一靶棒，插入与玻璃具有较低的粘结力的替代靶棒，然后将沉积的疏松层烘干烧结，再将替代靶棒抽出，经外喷、烧结形成第一石英层，然后依次向外围设置至最后一层的第N靶棒(N>＝1)，外喷、烧结完毕，其中靶棒的层数与所加工的光纤的石英层的层数相同，各层的靶棒数目与各石英层的孔数相同；

接续尾管，采用气压控制拉制成光子晶体光纤。

2.如权利要求1所述的一种低损耗光子晶体光纤的制备方法，其特征在于，所述高纯芯棒由二氧化硅组成，或为二氧化硅和二氧化锗的混合物。

3.如权利要求1所述的一种低损耗光子晶体光纤的制备方法，其特征在于，采用OVD工艺对所述中心芯棒、第一靶棒…第N靶棒进行外喷，所述中心石英层、第一石英层…第N石英层为二氧化硅。

4.权利要求1所述的一种低损耗光子晶体光纤的制备方法，其特征在于，拉制成光纤后在光纤外围涂覆保护材料。

5.权利要求1所述的一种低损耗光子晶体光纤的制备方法，其特征在于，所加工的光纤的石英层为6孔，包括第一石英层，第一靶棒的数目为6。

6.权利要求1所述的一种低损耗光子晶体光纤的制备方法，其特征在于，所加工的光纤的石英层为9孔，包括第一石英层和第二石英层，第一靶棒和第二靶棒的数目分别为3和6。

7.权利要求1所述的一种低损耗光子晶体光纤的制备方法，其特征在于，所加工的光纤的石英层为12孔，包括第一石英层、第二石英层和第三石英层，第一靶棒、第二靶棒和第三靶棒的数目分别为3、3和6。

8.一种低损耗光子晶体光纤，其特征在于，由上述权利要求1～5所述的一种低损耗光子晶体光纤的制备方法制得。