[发明专利]薄膜光罩、贴合辅具、贴合与曝光辅助装置在审
申请号: | 201610003321.6 | 申请日: | 2016-01-04 |
公开(公告)号: | CN106597805A | 公开(公告)日: | 2017-04-26 |
发明(设计)人: | 许铭案;林文福 | 申请(专利权)人: | 许铭案;林文福 |
主分类号: | G03F1/62 | 分类号: | G03F1/62;G03F1/64 |
代理公司: | 北京汇泽知识产权代理有限公司11228 | 代理人: | 张秋越 |
地址: | 中国台湾苗栗*** | 国省代码: | 台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 薄膜 贴合 曝光 辅助 装置 | ||
技术领域
本发明关于一种光罩,特别关于一种薄膜光罩、贴合辅具、贴合与曝光辅助装置及将一薄膜光罩贴合于一曲面基板的方法。
背景技术
目前,智能型装置如智能型手机、智能型手表、智能型医疗器材等,都搭配有大荧幕让使用者观看荧幕上的信息。这些具有大荧幕的装置,除了功能强大外,逐渐都走向个性化、美观的造型设计,包括外观、形状、色彩等。这些都必须通过令人激赏的外壳设计与制造来实现。而目前,曲面化的外壳造型,特别吸引人,也逐渐成为智能型装置的未来潮流。
目前,对于智能型装置的曲面化外壳的图案制作,有以下几种工法:第一种公法:转印技术。通过预先制作的平面图样,再转印到目标的曲面。此种工法的加工成本低,但加工速度慢、材料成本高,且线路分辨率差。第二种工法:喷墨+激光雕刻。通过喷墨方法将颜料喷至目标的曲面,再通过激光雕刻的方式将图案刻出。此种工法加工成本高且加工速度慢,设备成本也很高,材料成本也高,优点是,线路分辨率高,可达20μm(微米)。
因此,如何能开发出同时具备加工成本低、加工速度快、材料成本低、线路分辨率高的多重优点,并且,可在曲面外壳、立体外壳上制作出彩色图案之方法,成为智能型装置厂商所希求的发展方向。其中一种技术为运用彩色光阻层的技术,也就是,将彩色光阻层涂布在曲面外壳上后,再运用光蚀刻的方式蚀刻出图案。不过,此等曲面外壳如何能用光罩来实现蚀刻,成为此项工艺发展的发展重点。
发明内容
为了解决上述技术问题,本发明提供一种薄膜光罩、贴合辅具、贴合与曝光辅助装置及将一薄膜光罩贴合于一曲面基板的方法,运用一贴合辅具将薄膜光罩贴合于曲面基板上,并让薄膜光罩曲面化,而能让曲面基板制作出曲面图案。
本发明提供的薄膜光罩,用以贴合于一曲面基板,使该曲面基板可制作出一光阻层,该薄膜光罩包含:
一薄膜基材,由一挠性材料构成;及
一薄膜光罩层,形成于该薄膜基材上,该薄膜光罩层构成一图案,该图案可视,该薄膜光罩层贴合于该曲面基板的该光阻层处;
其中,该薄膜基材的厚度介于1-100微米之间,该薄膜光罩层介于10-3000纳米之间。
较佳地,该挠性材料为PET。
所述,上述薄膜光罩,更包含:
多个定位孔,形成于该薄膜基材上,通过一贴合治具使该薄膜基材定位,以与该曲面基板进行准确对位。
本发明还提供一种用于上述薄膜光罩的贴合辅具,用以于该薄膜光罩贴合于该曲面基板时,辅助该薄膜光罩压合于该曲面基板,并作为该薄膜光罩与一曝光机的界面,包含:
一软性板材,由一高透光的弹性材料构成,可穿透300至500纳米的光,可产生形变,并于该薄膜光罩贴合于该曲面基板时,受一外力而产生形变使该薄膜光罩紧密贴合于该曲面基板的该光阻层处,使该薄膜光罩曲面化。
较佳地,该高透光的弹性材料选自硅胶、硅油包覆软性外层、硅有机材料和含氟有机材料。
较佳地,该软性板材的底部制作为与该曲面基板相符的曲面。
本发明还提供一种贴合与曝光辅助装置,可使一曲面基板形成具有一曲面图案的一光阻层,包含:
一薄膜光罩,包含:
一薄膜基材,由一挠性材料构成,该薄膜基材上配置有多个定位孔,由一贴合治具,借由该些定位孔使该薄膜基材定位,以与该曲面基板进行准确对位;及
一薄膜光罩层,形成于该薄膜基材上,该薄膜光罩层构成一图案,该图案可视;及
其中,该薄膜基材的厚度介于1-100微米之间,该薄膜光罩层介于10-3000纳米之间;
一软性板材,由可产生形变的一高透光的弹性材料构成,可穿透300至500纳米的光,并于该薄膜光罩贴合于该曲面基板的该光阻层时,受一外力而产生形变使该薄膜光罩紧密贴合于该曲面基板的该光阻层处,使该薄膜光罩曲面化;
其中,该软性板材、该薄膜光罩层和该曲面基板依序堆栈后,共同置于一曝光机进行曝光,以使该光阻层形成该图案。
较佳地,该薄膜光罩更包含:
多个定位孔,形成于该薄膜基材上,通过一贴合治具使该薄膜基材定位,以与该曲面基板进行准确对位。
较佳地,该高透光的弹性材料选自硅胶、硅油包覆软性外层、硅有机材料和含氟有机材料。
较佳地,该软性板材的底部制作为与该曲面基板相符的曲面。
本发明还提供一种贴合与曝光辅助装置,可使一曲面基板形成具有一曲面图案的一光阻层,包含:
一薄膜光罩,包含:
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于许铭案;林文福,未经许铭案;林文福许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610003321.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备