[发明专利]薄膜光罩、贴合辅具、贴合与曝光辅助装置在审
| 申请号: | 201610003321.6 | 申请日: | 2016-01-04 |
| 公开(公告)号: | CN106597805A | 公开(公告)日: | 2017-04-26 |
| 发明(设计)人: | 许铭案;林文福 | 申请(专利权)人: | 许铭案;林文福 |
| 主分类号: | G03F1/62 | 分类号: | G03F1/62;G03F1/64 |
| 代理公司: | 北京汇泽知识产权代理有限公司11228 | 代理人: | 张秋越 |
| 地址: | 中国台湾苗栗*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 薄膜 贴合 曝光 辅助 装置 | ||
1.一种薄膜光罩,用以贴合于一曲面基板,使该曲面基板可制作出一光阻层,其特征在于,该薄膜光罩包含:
一薄膜基材,由一挠性材料构成;及
一薄膜光罩层,形成于该薄膜基材上,该薄膜光罩层构成一图案,该图案可视,该薄膜光罩层贴合于该曲面基板的该光阻层处;
其中,该薄膜基材的厚度介于1-100微米之间,该薄膜光罩层介于10-3000纳米之间。
2.如权利要求1所述的薄膜光罩,其特征在于,该挠性材料为PET。
3.如权利要求1所述的薄膜光罩,其特征在于,更包含:
多个定位孔,形成于该薄膜基材上,通过一贴合治具使该薄膜基材定位,以与该曲面基板进行准确对位。
4.一种用于权利要求1所述的薄膜光罩的贴合辅具,用以于该薄膜光罩贴合于该曲面基板时,辅助该薄膜光罩压合于该曲面基板,并作为该薄膜光罩与一曝光机的界面,其特征在于,包含:
一软性板材,由一高透光的弹性材料构成,可穿透300至500纳米的光,可产生形变,并于该薄膜光罩贴合于该曲面基板时,受一外力而产生形变使该薄膜光罩紧密贴合于该曲面基板的该光阻层处,使该薄膜光罩曲面化。
5.如权利要求4所述的贴合辅具,其特征在于,该高透光的弹性材料选自硅胶、硅油包覆软性外层、硅有机材料和含氟有机材料。
6.如权利要求4所述的贴合辅具,其特征在于,该软性板材的底部制作为与该曲面基板相符的曲面。
7.一种贴合与曝光辅助装置,可使一曲面基板形成具有一曲面图案的一光阻层,其特征在于,包含:
一薄膜光罩,包含:
一薄膜基材,由一挠性材料构成,该薄膜基材上配置有多个定位孔,由一贴合治具,借由该些定位孔使该薄膜基材定位,以与该曲面基板进行准确对位;及
一薄膜光罩层,形成于该薄膜基材上,该薄膜光罩层构成一图案,该图案可视;及
其中,该薄膜基材的厚度介于1-100微米之间,该薄膜光罩层介于10-3000纳米之间;
一软性板材,由可产生形变的一高透光的弹性材料构成,可穿透300至500纳米的光,并于该薄膜光罩贴合于该曲面基板的该光阻层时,受一外力而产生形变使该薄膜光罩紧密贴合于该曲面基板的该光阻层处,使该薄膜光罩曲面化;
其中,该软性板材、该薄膜光罩层和该曲面基板依序堆栈后,共同置于一曝光机进行曝光,以使该光阻层形成该图案。
8.如权利要求7所述的贴合与曝光辅助装置,其特征在于,该薄膜光罩更包含:
多个定位孔,形成于该薄膜基材上,通过一贴合治具使该薄膜基材定位,以与该曲面基板进行准确对位。
9.如权利要求7所述的贴合与曝光辅助装置,其特征在于,该高透光的弹性材料选自硅胶、硅油包覆软性外层、硅有机材料和含氟有机材料。
10.如权利要求所述7的曝光辅助装置,其特征在于,该软性板材的底部制作为与该曲面基板相符的曲面。
11.一种贴合与曝光辅助装置,可使一曲面基板形成具有一曲面图案的一光阻层,其特征在于,包含:
一薄膜光罩,包含:
一薄膜基材,由一挠性材料构成,该薄膜基材上配置有多个定位孔,由一贴合治具,借由该些定位孔使该薄膜基材定位,以与该曲面基板进行准确对位;及
一薄膜光罩层,形成于该薄膜基材上,该薄膜光罩层构成一图案,该图案可视;及
其中,该薄膜基材的厚度介于1-100微米之间,该薄膜光罩层介于10-3000纳米之间;
一硬式板材,预先制作为与该曲面基板相符的曲面,并于该薄膜光罩贴合于该曲面基板时,压合该薄膜光罩使该薄膜光罩紧密贴合于该曲面基板的该光阻层处,而使该薄膜光罩曲面化;
其中,贴合有该薄膜光罩层的该曲面基板,置于一曝光机进行曝光,以使该光阻层形成该图案。
12.如权利要求11所述的贴合与曝光辅助装置,其特征在于,该挠性材料为PET。
13.如权利要求11所述的贴合与曝光辅助装置,其特征在于,使该薄膜光罩贴合于该曲面基板以抽真空的方式实现。
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