[发明专利]用于在材料沉积工艺中承载基板的载体和用于承载基板的方法

说明书

描述了用于要在真空处理设施中处理的一个或多个基板的载体(100；320)。所述载体包括：基板支撑部分(110)，用于支撑一个或多个待处理基板，基板支撑部分(110)包括至少一个拐角(111)；和框架(120)，基本上围绕基板支撑部分(110)提供并且包括外缘(121；122；123；124)。框架(120)包括狭缝(130；330)，所述狭缝从基板支撑部分(110)的至少一个拐角(111)延伸到框架(120)的外缘(121；122；123；124)。狭缝(130；330)相对于框架的外缘(121；122；123；124)而倾斜。另外，描述了用于在真空沉积工艺中承载基板的方法。

技术领域

本文所述的主题涉及基板承载系统，并且更具体地涉及基板载体和用于在材料沉积工艺期间承载基板的系统。具体地，本文所述的主题涉及用于在真空沉积工艺中承载基板的载体并且涉及用于在真空沉积工艺中承载基板的方法。

背景技术

一般来说，基板载体用于支撑或保持待处理基板并且用于在处理设施中或通过所述处理设施运输基板。例如，基板载体在显示器或光生伏打工业中用于在处理设施中或通过所述处理设施运输基板，所述基板包括玻璃、硅或其他材料。这样的基板支撑件或基板载体可能是重要的，特别是，如果基板特别薄或由敏感材料(sensitive material)制成的话，直接运输基板(即，在不使用辅助运输装置的情况下运输)是不可能的，因为存在损坏风险。

例如，在物理气相沉积(Physical Vapor Deposition；PVD)工艺(诸如溅射)中，基板载体一般提供相对平坦的表面，此举使基板在材料沉积工艺期间保持水平。

与基板载体或保持器相关的缺陷之一是在高温处理期间易于翘曲(wraping)。因例如热膨胀而造成的载体的细微形变可能导致材料在基板上的不均匀的沉积。不均匀的材料沉积可实质地影响沉积质量。因此，在高温处理期间，可使用包括更温度稳定的材料(诸如石墨)的基板载体。然而，这些材料通常是非常昂贵的，从而导致此类基板传送(handling)系统(例如，用于薄膜电池制造、显示器制造或其他应用)的总拥有成本(TCO)是相对高的。

鉴于上述，本公开内容的目的在于提供克服本领域的至少一些问题的基板载体和用于承载基板的方法。

发明内容

鉴于上述，提供了根据独立权利要求的用于承载基板的载体和用于承载基板的方法。另外的方面、优点和特征从从属权利要求、描述和附图显而易见。

根据一个实施方式，提供用于要在真空处理设施中处理的一个或多个基板的载体。所述载体包括基板支撑部分，所述基板支撑部分用于支撑一个或多个待处理基板，所述基板支撑部分包括至少一个拐角。所述载体还包括框架，所述框架基本上围绕基板支撑部分提供并且包括外缘。框架包括狭缝，所述狭缝从基板支撑部分的至少一个拐角延伸到框架的外缘，其中狭缝相对于框架的外缘而倾斜。

根据另一实施方式，提供真空沉积设施。所述真空沉积设施包括：真空沉积腔室；和沉积源，所述沉积源包括要沉积在真空沉积腔室中的基板上的材料。所述真空沉积设施还包括根据本文所述的实施方式的载体。具体地，真空沉积设施包括载体，所述载体用于要在真空处理设施中处理的一个或多个基板。载体包括基板支撑部分，所述基板支撑部分用于支撑一个或多个待处理基板，所述基板支撑部分包括至少一个拐角。所述载体还包括框架，所述框架基本上围绕基板支撑部分提供并且包括外缘。框架包括狭缝，所述狭缝从基板支撑部分的至少一个拐角延伸到框架的外缘，其中狭缝相对于框架的外缘而倾斜。

根据又一实施方式，提供用于在真空沉积工艺中承载一个或多个基板的方法。所述方法包括提供载体。载体包括：基板支撑部分，具有至少一个拐角；和框架，基本上围绕所述基板支撑部分提供。载体的框架包括外缘和狭缝，所述狭缝从基板支撑部分的至少一个拐角延伸到框架的外缘。狭缝相对于框架的外缘而倾斜。所述方法还包括将至少一个基板或具有至少一个基板的子载体耦接到载体。