[发明专利]透明导电性薄膜

权利要求书

1.一种透明导电性薄膜，其特征在于，其为在透明的基材薄膜上至少依次层叠硬涂层、光学调整层和透明导电层而成的透明导电性薄膜，

所述透明导电层包含铟，

所述硬涂层的厚度为250nm～2000nm，

所述光学调整层的厚度为所述硬涂层的厚度的2％～10％，

在所述硬涂层和所述光学调整层之间进一步层叠有防剥离层，

所述防剥离层包含非化学计量组成(non-stoichiometric)的无机化合物，

所述防剥离层包含硅原子，

所述防剥离层具有Si2p轨道的结合能为98.0eV以上且小于103.0eV的区域，

所述防剥离层的厚度为1.5nm～8nm。

2.根据权利要求1所述的透明导电性薄膜，其特征在于，所述光学调整层包含金属氧化物。

3.根据权利要求2所述的透明导电性薄膜，其特征在于，所述金属氧化物包含二氧化硅(SiO₂)。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的透明导电性薄膜，其特征在于，所述硬涂层包含氧化锆(ZrO₂)、二氧化硅(SiO₂)、氧化钛(TiO₂)、氧化锡(SnO₂)、氧化铝(Al₂O₃)中的任一种或它们中的2种以上无机微粒。

5.根据权利要求1～3中任一项所述的透明导电性薄膜，其特征在于，所述硬涂层的折射率为1.60～1.70。

6.根据权利要求1所述的透明导电性薄膜，其特征在于，所述防剥离层包含硅化合物。

7.根据权利要求6所述的透明导电性薄膜，其特征在于，所述防剥离层包含硅氧化物。

8.根据权利要求1～3中任一项所述的透明导电性薄膜，其特征在于，是在所述基材薄膜的与所述透明导电层处于相反侧的主面上进一步层叠功能层而成的。

9.根据权利要求8所述的透明导电性薄膜，其中，所述功能层包括防粘连硬涂层。