[发明专利]射束阱、射束引导装置、EUV辐射产生设备和用于吸收射束的方法

说明书

本发明涉及一种射束阱(20)，其包括：用于反射入射到所述反射器(21)的表面上的射束、尤其激光射束(5)的反射器(21)，以及用于吸收在所述反射器(21)的表面(21a)处经反射的射束的吸收器装置(22)。所述反射器(21)的表面是分段的并且具有多个反射器区域(23a‑g)，所述多个反射器区域构造用于将所述入射射束的相应的部分射束(25a‑g)反射到所述吸收器装置(22)的分配给所述相应的反射器区域(23a‑g)的吸收器区域(26a‑g)。本发明也涉及一种具有这种射束阱(20)的射束引导装置、具有这种射束引导装置的EUV辐射产生设备(1)以及所属的用于吸收射束、尤其用于吸收激光射束(5)的方法。

技术领域

本发明涉及一种射束阱(Strahlfalle)以及用于将激光射束引导到目标区域的方向上用于产生EUV(极紫外)辐射的射束引导装置，所述射束引导装置具有这种射束阱。本发明也涉及一种具有这种射束引导装置的EUV辐射产生设备以及一种用于吸收射束、尤其用于吸收激光射束的方法。

背景技术

用于吸收不期望的激光辐射的辐射能量的射束阱已由DE 10 2010 036 161 A1已知。那里所描述的射束阱包括两个反射器，其中，所述两个反射器中的至少一个设有吸收辐射能量的涂层。所述两个反射器如此相对于彼此定位，使得入射到第一反射器上的并且在此经反射的激光辐射指向所述第二反射器。入射到所述第二反射器上并且在此经反射的激光辐射指向回到所述第一反射器，使得在多次反射和在此持续的部分的吸收之后，吸收所述激光辐射的辐射能量。

在EP 1 950 000 A1中描述了一种具有用于产生射束并且具有射束捕捉装置的射束发生器的设备。该射束捕捉装置具有具有彼此相对的平面表面的铝板。将射束指向射束捕捉装置并且通过在射束捕捉装置中的从第一表面到第二表面和从第二表面到第一表面的反复的反射来消灭所述射束。

从射束阱射出的背反射(Rückreflektion)对光学装置——在其中使用射束阱——的功能性有干扰影响。因此，有利的是，射束阱尽可能完全吸收入射射束的辐射能量。尤其对于如下情况：入射射束的功率非常高，例如在高于大约50kW的情况下，在传统的射束阱中存在如下问题：必要时不能够完全地吸收辐射能量。此外，在使用用于吸收(脉冲)高功率激光射束的情况下，必要时会导致在所述射束阱中使用的材料的降解现象(Degradationserscheinung)。

发明内容

本发明的任务

本发明的任务在于如此扩展一种射束阱，使得所述射束阱也在非常高的辐射功率的情况下实际上完全吸收入射射束的、尤其激光射束的辐射能量。

本发明的主题

该任务根据本发明通过一种射束阱解决，该射束阱包括：用于反射一入射到所述反射器的表面上的射束、尤其激光射束的反射器，以及用于吸收在所述反射器的表面处经反射的射束的吸收器装置，其中，所述反射器具有分段的表面，所述表面具有多个反射器区域，所述多个反射器区域构造用于将入射射束的相应的部分射束反射到所述吸收器装置的分配给相应的反射器区域的吸收器区域中。

在反射器的分段的表面处将入射射束分成多个部分射束，即该反射器用作分离镜(Zerlegungsspiegel)。该表面的反射器区域不同地定向和/或弯曲，使得在不同的反射器区域处经反射的部分射束在不同的方向上离开该反射器并且被反射到吸收器装置的不同的吸收器区域中。以这种方式可以使入射到反射器的辐射能量分布到多个吸收器区域，由此降低由相应的吸收器区域待吸收的辐射能量。可以更高效地在相应的吸收器区域中吸收相应的部分射束，否则将会是该吸收器区域必须吸收全部辐射能量的情况。所述吸收器区域分别(必要时稍微)彼此间隔开。