[发明专利]射束阱、射束引导装置、EUV辐射产生设备和用于吸收射束的方法

权利要求书

1.一种射束阱(20)，其包括：用于反射一入射到反射器(21)的表面(21a)上的射束的反射器(21)，以及用于吸收在所述反射器(21)的表面(21a)处经反射的射束的吸收器装置(22)，其中，所述反射器(21)的表面(21a)是分段的并且具有多个反射器区域(23a-g)，所述多个反射器区域构造用于将入射射束的相应的部分射束(25a-g)反射到所述吸收器装置(22)的分配给相应的反射器区域(23a-g)的吸收器区域(26a-g)中，其中，所述反射器区域(23a-g)构造为抛物面或圆环面，其中，在相应的抛物面或圆环面(23a-g)与所分配的吸收器区域(26a-g)之间构造有相应的抛物面或圆环面(23a-g)的环形线状焦点(27a-g)。

2.根据权利要求1所述的射束阱，其中，分段的表面(21a)构造所述反射器(21)的环绕的罩面。

3.根据权利要求2所述的射束阱，其中，所述罩面是旋转对称的。

4.根据权利要求1或2所述的射束阱，其中，所述反射器区域(23a-g)布置成同心地围绕所述反射器(21)的中心轴(24)。

5.根据权利要求1或2所述的射束阱，其中，所述吸收器装置(22)具有用于使射束穿过到所述反射器(21)的分段的表面(21a)的圆柱形开口(30)。

6.根据权利要求1或2所述的射束阱，其中，所述反射器(21)由金属材料构成。

7.根据权利要求1或2所述的射束阱，其中，所述吸收器装置(22)的相应的吸收器区域构造为具有用于入射射束的相应的部分射束(25a-g)的进入开口(28-g)的吸收器室(26a-g)。

8.根据权利要求7所述的射束阱，其中，所述吸收器室(26a)构造在两个平行定向的吸收器面(31a，32a)之间。

9.根据权利要求8所述的射束阱，其中，所述吸收器室(26a)在与所述进入开口(28a)相对的端部处具有安装在所述吸收器面(31a，32a)之间的终止面(33a)。

10.根据权利要求9所述的射束阱，其中，所述终止面(33a)以相对于平行的吸收器面(31a，32a)的30°与60°之间的角(α)定向。

11.根据权利要求9至10中任一项所述的射束阱，其中，所述两个吸收器面(31a，32a)和所述终止面(33a)构造在三个板状的构件(31，32，33)处。

12.根据权利要求11所述的射束阱，其中，所述构件(31)中的至少一个具有多个板(40a-c)。

13.根据权利要求12所述的射束阱，其中，在所述板(40c)中的至少一个中构造有至少一个冷却通道(41)。

14.一种射束引导装置(18)，其用于将激光射束(5)引导到目标区域(B)的方向上用于产生EUV辐射(14)，所述射束引导装置包括：根据上述权利要求中任一项所述的射束阱(20)。

15.根据权利要求14所述的射束引导装置，所述射束引导装置构造用于引导CO₂激光射束(5)或固态激光射束。

16.一种EUV辐射产生设备(1)，其包括：用于产生激光射束(5)的射束产生装置(2)、真空室(4)以及根据权利要求14或15的射束引导装置(15)，在所述真空室中，为了产生EUV辐射(14)，在目标区域(B)中能够引入靶材料(13)，所述射束引导装置用于将所述激光射束(5)从所述射束产生装置(2)引导到所述目标区域(B)的方向上。

17.一种用于吸收射束的方法，所述方法包括：

在分段的表面(21a)的多个反射器区域(23a-g)处将入射到反射器(21)的分段的表面(21a)上的射束的部分射束(25a-g)分别反射到吸收器装置(22)的分配给相应的反射器区域(23a-g)的吸收器区域(26a-g)的方向上，并且

在所述吸收器区域(26a-g)中吸收经反射的部分射束(25a-g)，

其中，所述反射器区域(23a-g)构造为抛物面或圆环面，其中，在相应的抛物面或圆环面(23a-g)与所分配的吸收器区域(26a-g)之间构造有相应的抛物面或圆环面(23a-g)的环形线状焦点(27a-g)。