[发明专利]磺酸衍生物化合物、光产酸剂、抗蚀剂组合物、阳离子聚合引发剂和阳离子聚合性组合物

说明书

本发明提供对365nm波长的光的吸收大且在有机溶剂中的溶解性高、显示出良好的产酸率的磺酸衍生物化合物、光产酸剂、抗蚀剂组合物、阳离子聚合引发剂和阳离子聚合性组合物。一种磺酸衍生物化合物，其由下述通式(I)表示。(式(I)中，X表示碳原子数1～14的直链或支链的烷基，R由碳原子数1～18的脂肪族烃基、碳原子数6～20的芳基、碳原子数7～20的芳基烷基、被酰基取代的碳原子数7～20的芳基、碳原子数3～12的脂环式烃基、10‑樟脑基等表示。

技术领域

本发明涉及磺酸衍生物化合物、光产酸剂、抗蚀剂组合物、阳离子聚合引发剂和阳离子聚合性组合物，详细而言涉及对365nm波长的光的吸收大且在有机溶剂中的溶解性高、显示出良好的产酸率的磺酸衍生物化合物、光产酸剂、抗蚀剂组合物、阳离子聚合引发剂和阳离子聚合性组合物。

背景技术

具有作为辐射线官能团的萘二甲酰亚胺基的磺酰氧基酰亚胺是受到光等能量射线照射而产生酸的物质，其用于半导体等的电子电路形成中使用的光刻法用抗蚀剂组合物中的光产酸剂或光造型用树脂组合物、涂料、涂剂、粘接剂、墨等光聚合性组合物中的阳离子聚合引发剂等。

例如，专利文献1中公开了由酸固化性树脂和具有规定结构的潜在固化剂催化剂形成的固化性组合物。其中公开了，在具有规定结构的潜在固化剂催化剂中，作为萘骨架的取代基的R¹～R⁴为氢原子、碳原子数1～8的烷基、碳原子数1～4的烷氧基、碳原子数1～12的烷硫基、硝基或卤素原子。

另外，专利文献2中公开了包含具有规定结构的磺酰氧基酰亚胺作为磺酸前体的、在紫外线、电子射线或X射线曝光装置中使用的光致抗蚀剂。专利文献2中，作为萘二甲酰亚胺公开了萘二甲酰亚胺、3-硝基萘二甲酰亚胺、4-硝基萘二甲酰亚胺、4-氯萘二甲酰亚胺以及4-溴萘二甲酰亚胺。

进而，专利文献3中公开了含有具有规定结构的磺酸产生剂的活性光线固化型墨组合物。具有规定结构的磺酸产生剂中，作为萘骨架的取代基即R¹、R²，公开了烷基、烷氧基、羰基、苯硫基、卤素原子、氰基、硝基、羟基。

进而，专利文献4中公开了光致抗蚀剂用底涂用组合物，作为光活性化合物，公开了具有萘二甲酰亚胺基的氟化磺酰氧基酰亚胺，作为萘骨架的取代基，公开了碳原子数1～8的烷基或碳原子数1～8的烷氧基。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开昭57-151651号公报

专利文献2：日本特表平8-501890号公报

专利文献3：日本特开2004-217748号公报

专利文献4：日本特表2009-516207号公报

发明内容

发明要解决的问题

作为光致抗蚀剂中使用的光产酸剂或光造型用树脂组合物、粘接剂、墨等中使用的阳离子聚合引发剂的光源，多使用EUV(超紫外光ExtremeUltra-Violet)、X射线、F₂、ArF、KrF、I射线、H射线、G射线等远紫外线、电子射线、辐射线。在使用这些光源的情况下，365nm波长的吸收大的物质占优势。另外，从对高精细图案化的对策、对工序的缩短化的对策的观点来看，期望使光致抗蚀剂、阳离子聚合物体系中含有充分量的产酸剂或使用产酸率良好的产酸剂。因此，作为产酸剂，迫切期望对有机溶剂的溶解性高的物质、具有充分的产酸率的物质。