[发明专利]分子聚集体的制造方法和分子聚集体制造装置有效

专利信息
申请号: 201580075537.7 申请日: 2015-02-04
公开(公告)号: CN107207742B 公开(公告)日: 2020-10-30
发明(设计)人: 松谷惠利;小关英一;川边隆志 申请(专利权)人: 株式会社岛津制作所
主分类号: C08J3/12 分类号: C08J3/12;B01J13/04;C08J3/03
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 分子 聚集体 制造 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种分子聚集体的制造方法,其为制造两亲性嵌段聚合物的分子聚集体的方法,所述制造方法具备如下步骤:

将包含两亲性嵌段聚合物和溶剂的聚合物溶液以层状涂布于面状基材上的步骤,其中,所述基材为挠性的长条薄膜,所述两亲性嵌段聚合物具有亲水性嵌段链和疏水性嵌段链,所述亲水性嵌段链具有20个以上的肌氨酸单元,所述疏水性嵌段链具有10个以上的乳酸单元;

从所述聚合物溶液的涂布层去除溶剂,在所述基材上形成聚合物薄膜的步骤;和,

使所述挠性的长条薄膜浸渍于水系液体中,得到分子聚集体的步骤,

其中,以层状涂布所述聚合物溶液时,所述基材为平面状或涂布面为凸的曲面状。

2.根据权利要求1所述的分子聚集体的制造方法,其中,所述基材为板状。

3.根据权利要求1或2所述的分子聚集体的制造方法,其中,以层状涂布所述聚合物溶液时,所述基材以被加温的状态供给。

4.根据权利要求1或2所述的分子聚集体的制造方法,其中,所述聚合物溶液还含有疏水性聚合物。

5.根据权利要求4所述的分子聚集体的制造方法,其中,所述疏水性聚合物为结合有选自由信号剂、配体和药剂组成的组中的1种以上的聚合物。

6.根据权利要求1或2所述的分子聚集体的制造方法,其中,所述聚合物溶液含有选自由信号剂、配体和药剂组成的组中的1种以上的附加化合物,

所述分子聚集体为包含所述两亲性嵌段聚合物、和所述聚合物溶液中所含的所述附加化合物的分子聚集体。

7.根据权利要求1或2所述的分子聚集体的制造方法,其中,所述聚合物溶液的所述溶剂的沸点为200℃以下。

8.根据权利要求1或2所述的分子聚集体的制造方法,其中,所述水系液体含有选自由信号剂、配体和药剂组成的组中的1种以上的附加化合物,

所述分子聚集体为包含所述两亲性嵌段聚合物、和所述水系液体中所含的所述附加化合物的分子聚集体。

9.根据权利要求1或2所述的分子聚集体的制造方法,其中,所述分子聚集体的粒径为10~500nm。

10.根据权利要求1或2所述的分子聚集体的制造方法,其中,所述分子聚集体的粒径的多分散性指数为0.3以下。

11.一种分子聚集体制造装置,其为用于制造两亲性嵌段聚合物的分子聚集体的分子聚集体制造装置,所述制造装置具备:

制膜部,其将包含两亲性嵌段聚合物和溶剂的聚合物溶液以层状涂布于面状基材上,其中,所述基材为挠性的长条薄膜,所述两亲性嵌段聚合物具有亲水性嵌段链和疏水性嵌段链,所述亲水性嵌段链具有20个以上的肌氨酸单元,所述疏水性嵌段链具有10个以上的乳酸单元;

干燥部,其从所述聚合物溶液的涂布层去除溶剂,在所述基材上形成聚合物薄膜;和,

分子聚集体形成部,其使所述挠性的长条薄膜浸渍于水系液体中,得到分子聚集体,

还具备如下基材移动机构:其使所述基材依次移动到所述制膜部、所述干燥部和所述分子聚集体形成部。

12.根据权利要求11所述的分子聚集体制造装置,所述基材移动机构具备:抽出部,其从卷绕体抽出长条薄膜,向所述制膜部输送;和,卷取部,其将从所述分子聚集体形成部输送的长条薄膜回收。

13.根据权利要求11或12所述的分子聚集体制造装置,其中,所述分子聚集体形成部的水浴中包含水系液体,通过将表面形成有所述聚合物薄膜的所述基材浸渍在所述水系液体中,从而使所述聚合物薄膜与所述水系液体接触。

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