[发明专利]涂覆的反射光学元件上的表面校正

权利要求书

1.一种校正反射光学元件(1)的表面形状(5)的方法，所述反射光学元件具有基板(2)和反射涂层(3)，

其中，所述方法至少包括以下步骤：

通过在至少一个可变形层(7)中产生永久局部形状变化(10)来校正所述表面形状(5)，所述至少一个可变形层布置于所述基板(2)和所述反射涂层(3)之间且具有磁性形状记忆合金，其中，通过对所述至少一个可变形层(7)施加电磁场，尤其是磁场(9)，来产生所述永久局部形状变化(10)。

2.如权利要求1所述的方法，其中，施加有所述电磁场，尤其是所述磁场(9)的可变形层(7)包括三元合金形式的磁性形状记忆合金。

3.如权利要求1或2所述的方法，其中，施加有所述电磁场，尤其是所述磁场(9)的可变形层(7)包括赫斯勒合金形式的磁性形状记忆合金。

4.如上述权利要求中任一项所述的方法，其中，施加有所述电磁场，尤其是所述磁场(9)的可变形层(7)包括NiMnGa合金形式的磁性形状记忆合金。

5.如上述权利要求中任一项所述的方法，其中，施加到所述可变形层(7)的磁场(9)具有小于1.0特斯拉的磁通量密度。

6.如上述权利要求中任一项所述的方法，其中，通过对所述至少一个可变形层(7)施加所述电磁场，尤其是所述磁场(9)，以均匀厚度改变(ΔD‘)的形式产生所述至少一个可变形层(7)的永久额外全局形状变化。

7.如上述权利要求中任一项所述的方法，其中，在校正所述表面形状(5)之前，所述方法包括下列步骤：

确定所述反射光学元件(1)的波前像差；以及

从所述反射光学元件(1)的波前像差计算所述反射光学元件(1)的校正表面形状。

8.一种校正微光刻投射曝光设备(20)的投射镜头(23)的成像特性的方法，包括以下步骤：

a.确定所述投射镜头(23)的波前像差；

b.从该投射镜头(23)的波前像差计算至少一个反射光学元件(1)的校正表面形状；

c.根据如权利要求1至6中任一项所述的方法来校正所述至少一个反射光学元件(1)的表面形状(5)。

9.一种光学元件(1)，包括：

基板(2)；

反射涂层(3)；

至少一个可变形层(7)，布置在所述基板(2)和所述反射涂层(3)之间，并具有磁性形状记忆合金。

10.如权利要求9所述的光学元件，其中，所述至少一个可变形层(7)具有三元合金形式的磁性形状记忆合金。

11.如权利要求9或10所述的光学元件，其中，所述至少一个可变形层(7)具有赫斯勒合金形式的磁性形状记忆合金。

12.如权利要求9至11中任一项所述的光学元件，其中，所述至少一个可变形层(7)具有NiMnGa合金形式的磁性形状记忆合金。

13.如权利要求9至12中任一项所述的光学元件，其中，所述至少一个可变形层(7)具有校正所述光学元件(1)的表面形状(5)的永久局部形状变化(10)。

14.如权利要求9至13中任一项所述的光学元件，其中，所述至少一个可变形层(7)具有不大于150nm、优选不大于100nm的厚度(D)。

15.一种微光刻投射曝光设备(20)的投射镜头(23)，包括：至少一个如权利要求9至14中任一项所述的光学元件(1)。

16.如权利要求15所述的投射镜头，还包括：

至少一个场发生器(19)，对所述至少一个反射光学元件(1)的至少一个可变形层(7)施加电磁场，尤其是磁场(9)，以产生所述至少一个可变形层(7)的永久局部形状变化(10)。