[发明专利]用于涂覆大面积的基体的装置

权利要求书

1.一种用于涂覆至少一个基体的装置，所述装置具有布置在反应器壳体(1)中的用于将过程气体输入过程室的进气机构(4)，此进气机构(4)具有气体分配室(4’)，而此气体分配室(4’)包含具有排出口(7)的气体排出板(9)、及平行于所述气体排出板延伸的后壁(10)，并且，所述进气机构(4)通过吊架(3)固定在反应器壳体(1)上，其中，吊架(3)以与所述进气机构(4)的侧边缘相间隔的方式固定在所述进气机构(4)上，其特征在于，在所述后壁(10)与所述气体排出板(9)之间设有间隔元件(13)，而气体排出板(9)、后壁(10)、及吊架(3)的下端(3’)固定在所述间隔元件上。

2.一种用于涂覆至少一个基体的装置，所述装置具有布置在反应器壳体(1)中的用于将过程气体输入过程室的进气机构(4)，此进气机构(4)具有气体分配室(4’)，而此气体分配室(4’)包含具有排出口(7)的气体排出板(9)、及平行于所述气体排出板延伸的后壁(10)，而且，所述进气机构(4)通过吊架(3)固定在所述反应器壳体(1)上，其中，吊架(3)以与所述进气机构(4)的侧边缘相间隔的方式固定在所述进气机构(4)上，其特征在于，所述吊架(3)具有沿其延伸方向相隔一定距离的第一及第二弯曲区(25至28)，其中，第一弯曲区(25，28)仅允许沿第一弯曲方向发生弯曲，并且，第二弯曲区(26，27)仅允许沿横向于所述第一弯曲方向而定向的第二弯曲方向发生弯曲。

3.一种用于涂覆至少一个基体的装置，所述装置具有布置在反应器壳体(1)中的用于将过程气体输入过程室的进气机构(4)，此进气机构(4)具有气体分配室(4’)，而此气体分配室(4’)包含具有排出口(7)的气体排出板(9)、及平行于所述气体排出板延伸的后壁(10)，而且，所述进气机构(4)通过吊架(3)固定在所述反应器壳体(1)上，其中，吊架(3)以与所述进气机构(4)的侧边缘相间隔的方式固定在所述进气机构(4)上，其中，所述吊架(3)的上端(3”)固定在保持元件(36)上，所述保持元件(36)的垂向的位置能够相对于保持装置(2)调整，其特征在于，所述吊架(3)的上端(3”)通过在过载时会断裂的销(44)而与保持元件(36)相连接，其中，与所述吊架(3)的上端(3”)对应配设具有朝下的凸肩(40’)的头部件(40)，其中，所述凸肩(40’)与侧边(45’)在垂向上相间隔，使得所述吊架(3)在所述销(44)断裂时由于重力而仅向下移动了所述凸肩(40’)与所述侧边(45’)间距的距离。

4.按照权利要求1所述的装置，其特征在于，所述后壁(10)能够相对于所述气体排出板(9)沿所述吊架(3)的延伸方向略微移动，且为了密封而设有波纹管(20)，特别是，所述波纹管(20)通过第一区段固定在所述间隔元件(13)上，且通过可相对于所述第一区段移动的第二区段固定在所述后壁(10)上。

5.按照权利要求1所述的装置，其特征在于，所述间隔元件(13)具有空腔(14)，此空腔(14)具有底部(14’)，而所述吊架(3)的下端(3’)固定在所述底部(14’)上。

6.按照权利要求1所述的装置，其特征在于，所述间隔元件(13)具有多个支脚(15)，所述支脚与所述气体排出板(9)固定连接。

7.按照权利要求1、2或3所述的装置，其特征在于，所述装置具有环形件(23)，此环形件(23)固定在所述后壁(10)上，用于界定所述间隔元件(13)相对于所述后壁(10)的位移路径。

8.按照权利要求2所述的装置，其特征在于，所述弯曲区(25至28)由所述吊架(3)的板簧式削平的区域构成。

9.按照权利要求1所述的装置，其特征在于，与所述吊架(3)的下端(3’)及上端(3”)对应地分别直接相邻接地设置第一弯曲区(25，28)，以及，第二弯曲区(26，27)分别直接与所述第一弯曲区(25，28)相邻接。