[发明专利]反射器

说明书

一种反射器(2)，包括由衬底(8)支撑的板(4)，其中所述板具有反射表面(5)，并且通过无粘合剂结合方式被固定在衬底上，并且其中冷却通道阵列(10)被设置在反射器中。冷却通道阵列的通道(16)可以由衬底的表面中的开口通道形成，所述开口通道被所述板封闭以形成通道。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2014年12月12日递交的EP 14197602.7的权益，并且其通过引用全文并入本文。

技术领域

本发明涉及一种可以形成光刻系统的一部分的反射器。本发明还涉及一种光刻系统。

背景技术

反射器被用在EUV光刻设备中，因为EUV辐射在大多数材料中被强烈地吸收，并且因而透射透镜对于EUV光刻设备并不实用。当反射器被用于反射EUV辐射时，一些EUV辐射被反射器吸收(EUV辐射的反射不是100％的效率)。EUV辐射被反射器的吸收导致反射器加热，并且这将进而导致反射器的扭曲。反射器的扭曲是不期望的，因为它将引入像差到EUV辐射束中。如果反射器为衍射光栅，那么不期望的加热作用可能将使光栅扭曲，使得衍射光栅不再以期望的方式产生衍射级。

可能期望的是消除或减轻至少一个与已知的反射器相关的问题。

发明内容

根据本发明的第一方面，提供了一种反射器，包括由衬底支撑的板，其中所述板具有反射表面，并且通过无粘合剂结合被固定至衬底，并且其中在反射器中设置冷却通道阵列。

因为在板和衬底之间不存在粘合剂允许热量更容易进入衬底中，因而该反射器是有利的。热量然后可以通过流过冷却通道阵列的液体被移除。

所述冷却通道阵列的通道可以由衬底的表面中的开口通道形成，所述开口通道被所述板封闭以形成所述通道。

以这种方式形成通道是直接的。其允许形成具有亚毫米级尺寸的通道。

所述板和衬底之间的无粘合剂结合可以包括直接结合或光学接触结合。

所述衬底可以为通过粘合剂的层固定至另一个衬底的中间衬底。

所述中间衬底可以具有约2mm或更小的厚度。

所述板和所述衬底可以由相同的材料形成。所述材料可以为半导体、金属或金属合金。

所述材料可以为硅、SiSiC、SiC、铜或蓝宝石中的一种。

所述板和所述衬底可以由不同的材料形成。例如，所述板可以由硅、SiC、铜或铝中的一种形成，而所述衬底由微晶玻璃、堇青石、ULE、石英或不胀钢中的一种形成。每一个通道可以具有250微米或更大的宽度。

每一个通道可以具有小于1mm的宽度。每一个通道可以具有小于0.5mm的宽度。

当以横截面观察时通道的每一侧的尺寸小于1000微米。

冷却通道阵列的通道的横截面可以大致呈矩形。

所述板可以固定在衬底的弯曲表面上。

所述板的反射表面可以是弯曲的。所述板的相反表面可以是平的。

反射器还可以包括入口管道和出口管道，所述入口管道被配置为将液体传送至冷却通道阵列中，所述出口管道被配置为从冷却通道阵列中移除液体。

所述反射器可以为反射镜或衍射光栅。

所述板的反射表面可以包括金属层。

所述冷却通道阵列的通道可以由衬底的表面中的开口通道形成，所述开口通道被中间板封闭以形成通道。所述反射器还可以包括第二冷却所述通道阵列，所述第二冷却通道阵列的多个通道由在中间板中的开口通道形成，中间板中的开口通道被板封闭。