[发明专利]投影设备以及用于逐像素地投影图像的方法有效
申请号: | 201580065331.6 | 申请日: | 2015-11-23 |
公开(公告)号: | CN107005684B | 公开(公告)日: | 2021-02-02 |
发明(设计)人: | A·埃勒特;N·迪特里希;F·施密特;G·皮拉德 | 申请(专利权)人: | 罗伯特·博世有限公司 |
主分类号: | H04N9/31 | 分类号: | H04N9/31 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 郭毅 |
地址: | 德国斯*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 投影设备 以及 用于 像素 投影 图像 方法 | ||
1.一种用于逐像素地投影图像(50)的投影设备,该投影设备具有:用于逐像素地发射可见光的光二极管装置(12);用于逐像素地发射红外辐射的红外二极管装置(14);辐射强度检测装置(16),其用于逐像素地检测反射的可见光的反射强度和反射的红外辐射的反射强度并且用于基于所检测的反射的可见光的反射强度和所检测的反射的红外辐射的反射强度逐像素地产生实际反射强度测量信号;控制装置(18;18'),所述控制装置构造用于操控所述光二极管装置(12)逐像素地与待投影的所述图像(50)相对应地发射所述可见光;并且所述控制装置还构造用于基于所述待投影图像(50)并且基于反射模型来控制所述红外二极管装置(14)逐像素地发射所述红外辐射,使得对于所述实际反射强度测量信号而言逐像素预期的期望反射强度测量信号对于预确定的像素(54)具有预确定的值,所述值对于所有预确定的像素相同。
2.根据权利要求1所述的投影设备,其具有手势检测装置(20),所述手势检测装置构造用于基于所述预确定的像素(54)逐像素产生的实际反射强度测量信号检测控制手势并且将基于所检测的控制手势的控制信号传递给所述控制装置(18'),所述控制装置能够基于所传递的控制信号运行或适配。
3.根据权利要求1或2所述的投影设备,其具有:校准装置(22),借助所述校准装置,所述反射模型能够基于所述预确定的像素(54)中的至少一个像素的实际反射强度测量信号与所述至少一个像素的相应的期望反射强度测量信号之间的差值自动地构建或自动地适配。
4.根据权利要求1或2所述的投影设备,其具有:编程装置(24),借助所述编程装置,所述反射模型的至少一个参数能够由用户适配。
5.根据权利要求1或2所述的投影设备,其中,所述反射模型考虑辐射强度检测装置(16)对至少一种所述可见光的敏感度和/或对所述红外辐射的敏感度,所述敏感度取决于波长。
6.根据权利要求1或2所述的投影设备,其中,所述反射模型考虑投影面和/或对象分别对至少一种所述可见光的反射系数和对所述红外辐射的反射系数,所述反射系数取决于波长,并且,所述反射系数是预确定的和/或可确定的。
7.根据权利要求6所述的投影设备,其中,所述对象是身体部分。
8.一种用于逐像素地投影图像(50)的方法,所述方法具有以下步骤:控制投影设备(10;10')的光二极管装置(12)逐像素地与待投影的所述图像(50)相对应地发射可见光(32;32-1,32-2,32-3),并且控制投影设备(10;10')的红外二极管装置(14)逐像素地发射红外辐射;对于预确定的像素(54),辐射强度检测装置(16)逐像素地检测反射的可见光的反射强度和反射的红外辐射的反射强度;基于所检测的反射的可见光的反射强度和所检测的反射的红外辐射的反射强度,逐像素地产生实际反射强度测量信号;基于所述待投影图像(50)并且基于反射模型控制投影设备(10;10')的红外二极管装置(14)逐像素地发射红外辐射,使得对于所述实际反射强度测量信号而言逐像素预期的期望反射强度测量信号对于预确定的像素(54)具有预确定的值,所述值对于所有预确定的像素相同。
9.根据权利要求8的方法,其具有以下步骤:基于所述预确定的像素(54)的逐像素产生的实际反射强度测量信号,检测控制手势;产生基于所检测的控制手势的控制信号。
10.根据权利要求8或9所述的方法,其具有以下步骤:基于所述预确定的像素(54)中的至少一个像素的所产生的实际反射强度测量信号与所述预确定的值之间的差值来自动地构建或适配所述反射模型。
11.根据权利要求10所述的方法,其中,自动地构建或适配所述反射模型包括自动地确定或适配所述辐射强度检测装置(16)对至少一种所述可见光的敏感度和/或对所述红外辐射的敏感度,所述敏感度取决于波长。
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