[发明专利]真空泵以及该真空泵的异常原因推定方法

说明书

提供能对检测出旋转体与定子的接触时的接触的原因进行解析、并采取适当的处理的真空泵以及该真空泵的异常原因推定方法。接触判定用关于位移信号的旋转体接触判定用阈值（B1）、和关于加速度信号的旋转体接触判定用阈值（B2）进行。此外，关于旋转体（103）的不平衡量的判定，用关于位移信号的不平衡量增加判定用阈值（A1）、和关于加速度信号的不平衡量增加判定用阈值（A2）进行。并且，如果在位移信号与加速度信号的任一方中，在判定为接触推定时刻前的既定时间内，超过了不平衡量增加判定用阈值（A1）或不平衡量增加判定用阈值（A2），则判断为不是因生成物的堆积增加导致的接触。另一方面，若在该既定时间内都没有超过，则判断为因生成物的堆积增加导致的接触。

技术领域

本发明涉及真空泵以及该真空泵的异常原因推定方法，涉及如下真空泵以及该真空泵的异常原因推定方法，前述真空泵以及该真空泵的异常原因推定方法为，能够对检测出旋转体与定子的接触时的接触的原因进行解析，能采取适当的处理。

背景技术

伴随着近年的电子产品的发展，存储器以及集成电路等半导体的需求急剧地增大。

以向纯度非常高的半导体基板涂布杂质而赋予其电气的性质、或者借助蚀刻在半导体基板上形成细微的回路等方式，来制造这些半导体。

并且，为了避免由于空气中的灰尘等导致的影响，这些作业需要在高真空状态的腔内进行。对于该腔的排气，一般使用真空泵，特别是由于残留气体较少并且保养容易等方面，多使用作为真空泵中的一种的涡轮分子泵。

此外，在半导体制造工序中，存在多个使各种工艺气体作用于半导体的基板的工序，涡轮分子泵不仅用于使腔内成为真空，还用于将这些工艺气体从腔内排出。

该分子泵的以高速旋转的旋转翼等旋转体与定子的间隙非常小。因此，在排气的凝固成分等的固体生成物在真空泵的内部堆积的情况下，或者在旋转体由于蠕变现象产生变形的情况下，或者在保护轴承的磨损已发展的情况下等，存在旋转体与定子接触的可能。

若不对这样的旋转体与定子的接触的状态进行维修（彻底检修）而置之不理，则存在产生重大故障的可能。

因此，以往使用专利文献1所记载的技术来预测维修的时间。接着，在适当的时间推动维修的执行，从而将防止涡轮分子泵达到不能再利用的状态防范于未然。

专利文献1：日本特许第3457353号公报。

专利文献2：WO2010/007975号公报。

但是，在专利文献1所记载的技术中，不能判别下述振动振幅的增加的差异：由于旋转体的随着时间推移的不平衡增大导致的振动振幅的增加、由于旋转体与定子的物理性的接触导致的振动振幅的增加。

此外，不能将下述振动振幅的增加进行区别：由于连接泵的真空阀的开闭等所伴随的机械性的振动而导致的、或由于对于泵或者连接泵的真空容器等装置施加的外部冲击（外部干扰）而导致的振动振幅的增加、由于旋转体与定子的物理性的接触导致的振动振幅的增加。

因此，在专利文献2中，为了准确地精度良好地检测固体生成物的堆积量达到旋转体与定子的间隙的情况，使用安装于定子的加速度传感器等振动传感器来判定旋转体与定子的接触。而且，由此，精度良好地检测出旋转体与定子的物理性的接触。

但是，在根据专利文献2的方法中，还存在下述问题：为了提高来自定子的振动信号的可靠性，不得不采取使用带通滤波器、弹性部件的固定方法。

发明内容

本发明是鉴于这样的以往的问题而作出的，其目的在于提供一种真空泵以及该真空泵的异常原因推定方法，其能够对检测出旋转体与定子的接触时的接触原因进行解析并且采取适当的处理。