[发明专利]水性涂布液、膜及其制造方法、层叠体和太阳能电池模块

说明书

技术领域

本发明涉及一种水性涂布液、膜及其制造方法、层叠体和太阳能电池模块。

背景技术

含有二氧化硅微粒的水性涂布液使用的是包含水的溶剂，所形成的膜的表面能低且透明性优异，由此使用于各种用途。

作为其用途，可以适当地应用于防反射膜、光学透镜、光学过滤器、各种显示器的薄层薄膜晶体管阵列(TFT)用平坦化膜、防结露膜、防污膜及表面保护膜等。

其中，防反射膜因能够使用于例如太阳能电池模块、监控摄像机、照明设备、标签的保护膜而有用。在防反射膜的用途中开发出各种涂层组合物及涂覆方法。

例如在日本特表2013-527879号公报中，作为对基材赋予防反射性及耐久性中的至少一种特性的涂覆方法，公开了包括如下工序的基材表面的改性方法：将涂层组合物应用于基材的工序，所述涂层组合物包含非球状纳米粒子、球状纳米粒子、并任意包含表面活性剂及水，且非球状纳米粒子或球状纳米粒子中的至少一部分在表面具有官能团；及干燥涂层组合物而在基材上形成亲水性涂层的工序。

并且，在日本专利第5266549号公报中，作为可以使用于防反射涂覆等光学涂覆中的涂层组合物，公开了包含含有阳离子性聚合物的核材料和含有金属氧化物的壳材料，并包含平均特定尺寸为10nm以上且200nm以下的纳米粒子的组合物。

并且，在日本特开2009-54352号公报中，作为低反射膜形成用涂料，公开了通过含有包括具有空气层的二氧化硅微粒和/或多孔二氧化硅微粒的金属氧化物和树脂而成的涂料。

发明内容

发明要解决的技术课题

然而，通过日本特表2013-527879号公报中所记载的方法而被改性的基材表面，防反射性优异，但无法得到充分的耐擦伤性。

并且，由日本专利第5266549号公报及日本特开2009-54352号公报中所记载的组合物或涂料得到的层也同样，防反射性优异，但耐擦伤性不充分。

即，实际情况下，未达到可提供防反射性及耐擦伤性优异的膜。

本发明的一实施方式是鉴于上述情况而完成的，其目的在于提供形成防反射性及耐擦伤性优异的膜的水性涂布液、防反射性及耐擦伤性优异的膜及其制造方法、层叠体和太阳能电池模块，将实现该目的作为课题。

用于解决技术课题的手段

用于实现课题的具体的方式中包括以下方式。

＜1＞一种膜的制造方法，其包括：在基材上涂布水性涂布液而形成涂布膜的工序，所述水性涂布液包含水、作为二氧化硅粒子的平均一次粒径为8nm以下的一种无孔二氧化硅粒子、表面活性剂，且pH为1.5～3.5；及将涂布形成的涂布膜进行干燥的工序。

＜2＞根据＜1＞所述的膜的制造方法，无孔二氧化硅粒子的平均一次粒径为6nm以下。

＜3＞根据＜1＞或＜2＞所述的膜的制造方法，水性涂布液的pH为1.8～3.0。

＜4＞根据＜1＞～＜3＞中任一个所述的膜的制造方法，在干燥涂布膜的工序之后，还包括将干燥后的涂布膜以400℃以上且800℃以下的温度进行烧成的工序。

＜5＞根据＜4＞所述的膜的制造方法，烧成工序在500℃以上且800℃以下的温度下进行烧成。

＜6＞根据＜4＞或＜5＞所述的膜的制造方法，烧成工序通过烧成而形成连结有多个无孔二氧化硅粒子的粒子连结体。

＜7＞根据＜4＞～＜6＞中任一个所述的膜的制造方法，烧成后的涂布膜的膜厚为50nm以上且350nm以下。

＜8＞根据＜1＞～＜7＞中任一个所述的膜的制造方法，至少干燥后的涂布膜中，由下述式(1)定义的在400nm～1100nm波长的光以5°入射时的平均反射率变化ΔR的绝对值为2.0％以上。

|平均反射率变化ΔR|＝|R₁-R₂|式(1)

式(1)中，R₁表示膜形成后的基材的平均反射率，R₂表示基材的平均反射率。

＜9＞根据＜8＞所述的膜的制造方法，平均反射率变化ΔR的绝对值为2.5％以上。

＜10＞一种水性涂布液，包含水、作为二氧化硅粒子的平均一次粒径为8nm以下的一种无孔二氧化硅粒子、表面活性剂，且pH为1.5～3.5。

＜11＞根据＜10＞所述的水性涂布液，无孔二氧化硅粒子的平均一次粒径为6nm以下。

＜12＞根据＜10＞或＜11＞所述的水性涂布液，水性涂布液的pH为1.8～3.0。