[发明专利]水性涂布液、膜及其制造方法、层叠体和太阳能电池模块

权利要求书

1.一种膜的制造方法，其包括：

在基材上涂布水性涂布液而形成涂布膜的工序，所述水性涂布液包含水、作为二氧化硅粒子的平均一次粒径为8nm以下的一种无孔二氧化硅粒子、表面活性剂，且该水性涂布液的pH为1.5～3.5；及

将涂布形成的涂布膜进行干燥的工序。

2.根据权利要求1所述的膜的制造方法，其中，

所述pH为1.8～3.0。

3.根据权利要求1或2所述的膜的制造方法，其中，

在干燥所述涂布膜的工序之后，还包括将干燥后的涂布膜以400℃以上且800℃以下的温度进行烧成的工序。

4.根据权利要求3所述的膜的制造方法，其中，

所述烧成工序通过烧成而形成粒子连结体，该粒子连结体是多个无孔二氧化硅粒子连结而成的。

5.根据权利要求3或4所述的膜的制造方法，其中，

烧成后的所述涂布膜的膜厚为50nm以上且350nm以下。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的膜的制造方法，其中，

在至少干燥后的所述涂布膜中，由下述式(1)定义的在400nm～1100nm波长的光以5°入射时的平均反射率变化ΔR的绝对值为2.0％以上，

|平均反射率变化ΔR|＝|R₁-R₂|式(1)

式(1)中，R₁表示膜形成后的基材的平均反射率，R₂表示基材的平均反射率。

7.一种水性涂布液，其包含水、作为二氧化硅粒子的平均一次粒径为8nm以下的一种无孔二氧化硅粒子、表面活性剂，且该水性涂布液的pH为1.5～3.5。

8.根据权利要求7所述的水性涂布液，其中，

所述平均一次粒径为6nm以下。

9.根据权利要求7或8所述的水性涂布液，其中，

所述pH为1.8～3.0。

10.一种膜，其含有作为二氧化硅粒子的平均一次粒径为8nm以下的一种无孔二氧化硅粒子，且膜厚为50nm以上且350nm以下。

11.根据权利要求10所述的膜，其中，

由下述式(1)定义的在400nm～1100nm波长的光以5°入射时的平均反射率变化ΔR的绝对值为2.0％以上，

|平均反射率变化ΔR|＝|R₁-R₂|式(1)

式(1)中，R₁表示膜形成后的基材的平均反射率，R₂表示基材的平均反射率。

12.根据权利要求10或11所述的膜，其中，

以粒子连结体的状态含有所述无孔二氧化硅粒子,该粒子连结体是多个无孔二氧化硅粒子连结而成的。

13.根据权利要求10或11所述的膜，

所述膜还含有表面活性剂。

14.一种层叠体，在基材上具有通过权利要求1至6中任一项所述的制造方法而制造的膜或者权利要求10至13中任一项所述的膜。

15.一种太阳能电池模块，其具备权利要求14所述的层叠体。