[发明专利]成膜装置

说明书

根据本发明的成膜装置具备：腔室；在所述腔室之中保持基板的保持部；以所述基板通过所述腔室之中的成膜区域的方式而使保持所述基板的所述保持部移动的驱动部；向所述成膜区域供应成膜物质从而将膜形成于正通过所述成膜区域的所述基板的成膜部；以及冷却所述保持部的冷却部。

【技术领域】

本发明是关于在基板形成膜的成膜装置。

【背景技术】

在电子装置的制造中，可凭借等离子PVD或等离子CVD等的等离子处理而在基板形成各种的膜。例如，专利文献1记载边搬送基板边在该基板上形成膜的成膜装置。在如此的成膜装置中，经受处理的基板被加热，可能偏离处理用的适当温度或变形。尤其，在树脂基板等中，变形量可能变大而成为问题。

另一方面，存在将膜形成于基板的两个面两者上的成膜装置。在记载于专利文献2的成膜装置中，在成膜部在基板的一个面形成膜后，基板被从成膜部移出并移动至载体旋转部。载体旋转部将保持基板的载体载置构件旋转180度。被旋转的基板送回成膜部，成膜部在另一面形成膜。在这种成膜装置中由于搬送次数、搬送时间等增加的原因，存在产量低的问题。此外，在为了谋求产量的提升同时处理多个基板的情况下，存在一个成膜部将膜形成于其他成膜部的问题。

先前技术文献

专利文献

专利文献1：日本发明专利公开2014-58698号公报

专利文献2：日本发明专利公开2014-28999号公报

【发明内容】

本发明的第一方面的目的在于提供一种技术，其有利于在边搬送基板边在基板上形成膜的成膜装置中抑制基板的变形。

本发明之第一方面涉及一种成膜装置，该成膜装置具备：腔室；保持部，用于在所述腔室中保持基板；驱动部，用于移动保持所述基板的所述保持部，使得所述基板通过所述腔室中的成膜区域；成膜部，用于通过向所述成膜区域供应成膜物质而将膜形成于正通过所述成膜区域的所述基板；以及冷却部，用于冷却所述保持部。

本发明的第二方面的目的在于提供有利于产量的提升的技术。

本发明的第二方面涉及一种成膜装置，用于在均具有第一面及第二面的多个基板中的每个基板的所述第一面及所述第二面中的每一面上形成膜，所述成膜装置具备：腔室；保持部，所述保持部具有彼此位于相反侧上的第一夹具及第二夹具并且构成为，在所述腔室中，由所述第一夹具保持基板的所述第二面一侧，由所述第二夹具保持基板的所述第一面一侧；驱动部，用于移动所述保持部，使得分别由所述第一夹具和所述第二夹具保持的基板通过所述腔室中的成膜区域；第一成膜部，用于在由所述第一夹具保持的基板上形成膜；第二成膜部，用于在由所述第二夹具保持的基板上形成膜；以及操作机构，用于在所述第二面一侧由所述第一夹具所保持并且由第一成膜部在所述第一面上形成膜的情况下操作所述基板使得所述第一面一侧由所述第二夹具所保持。

本发明的第三方面的目的在于提供一种技术，其有利于解决在为了谋求产量的提升能够同时处理多个基板的情况下出现的问题。

本发明的第三方面涉及一种成膜装置，具备：腔室；保持部，所述保持部具有彼此位于相反侧上的第一夹具及第二夹具，并且构造为，在所述腔室中，分别由所述第一夹具和所述第二夹具保持基板；驱动部，用于使所述保持部移动，使得分别由所述第一夹具和所述第二夹具保持的基板通过所述腔室中的成膜区域；第一成膜部，用于在由所述第一夹具所保持的所述基板上形成膜；以及第二成膜部，用于在由所述第二夹具所保持的基板上形成膜；其中，所述保持部包含分离部，用于将所述第一成膜部一侧的空间与所述第二成膜部一侧的空间分离，使得在形成膜期间在所述保持部的可动范围中所述第一成膜部与所述第二成膜部不会彼此面对。

【附图说明】

图1是本发明的一个实施例的成膜装置以平行于水平面的面截取的示意性的剖面图。