[发明专利]容器收纳装置

说明书

收纳多个存积有半导体制造用的处理液的容器的容器收纳装置包括：载置容器的载置台；根据载置在载置台的容器内的处理液的液量进行升降的支承板；和根据支承板的升降相对于容器的相对位置发生变化的阻挡件。阻挡件在容器内的液量低于规定值的情况下，上升至阻碍容器从载置台移动的位置。

技术领域

(关联申请的相互参照)

本申请基于2014年9月24日在日本申请的特愿2014-193581号和2015年8月10日在日本申请的特愿2015-158322号，主张优先权，将其内容援引在此。

本发明涉及收纳例如存积有抗蚀剂液、显影液等半导体制造用的处理液的容器的容器收纳装置。

背景技术

例如在半导体器件的制造工序中的光刻工序中，为了在晶片上涂敷抗蚀剂液形成抗蚀剂膜，或供给显影液对抗蚀剂膜进行显影处理，而进行各种液处理。这些一系列的液处理通过搭载有在各种液处理装置、装置间搬运晶片的搬运机构等的基板处理系统来进行。

在这样的基板处理系统中，各种处理液从存积该处理液的容器供给到各种液处理装置，但处理液中会使用例如抗蚀剂液、显影液那样多种处理液，另外，抗蚀剂液、显影液其自身也会使用各种种类，因此，该基板处理系统中要配置多种处理液的容器。

因此，例如为了防止在更换使用空的容器时错误地与不同种类的容器更换的问题，例如专利文献1中提出了管理各容器的方法。

在专利文献1的方法中，预先在例如处理液的容器表面粘贴识别用的条形码，在容器更换时读取该条形码，与预先注册的数据进行比较，判定更换的容器的是否适合。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2001-217217号公報

发明内容

发明要解决的技术问题

但是，在上述的基板处理系统中，为了有效地收纳多个容器，例如如图29所示，使用具有在上下方向上设置为多层的搁板200的收纳架201。而且，在各层搁板200配置多个容器210。

因此，在容器210变空时，为了从多个容器210中确定需要更换的容器210需要时间。特别是，通常容器210带有颜色，无法从外部确认处理液的剩余量，另外，容器210的大小、形状与处理液的种类无关而大致相同，因此，难以通过从外部的视觉辨认来确定变空的容器210。

因此，在容器210的更换作业时，有可能错误地更换与对象不同的容器210。而且，更换错误的容器210而处理液混合接触时，需要进行处理液的系统的清洗等，因此，基板处理系统的恢复会耗费大量的时间和费用。

本发明是鉴于上述情况而完成的，其目的在于在短时间内确定成为更换对象的处理液的容器，并且防止更换错误的容器。

用于解决技术问题的技术方案

为了实现上述的目的，本发明提供一种收纳多个存积有半导体制造用的处理液的容器的容器收纳装置，其包括：载置上述容器的多个载置台；和移动部件，其配置在阻碍为了更换上述载置台上的上述容器而使该容器从上述载置台移动的位置，且在规定的条件成立时相对于上述载置台上的容器的相对位置发生变化，从阻碍用于更换上述容器的移动的位置退避。

根据本发明，在阻碍为了更换容器而使该容器从载置台移动的位置配置移动部件，该移动部件在规定条件成立时从阻碍用于更换容器的移动的位置退避。其中，规定的条件例如是容器内的处理液的液量低于规定的值，需要进行该容器的更换的情况等。因此，例如在更换处理液的液量低于规定的值的容器时，能够防止错误更换与更换对象不同的容器、即移动部件没有从阻碍容器的移动的位置退避的载置台所对应的容器。另外，移动机构进行移动，因此，通过目测确认该移动机构的位置，能够容易确定成为更换对象的容器。