[发明专利]投射曝光系统的照明光学单元

说明书

一种投射曝光系统(1)的照明光学单元(17i)，包含多个辐射反射组件，其中所有辐射反射组件布置为使得含照明辐射(5)的光束(10_i)会在这些组件上以相同方式偏转。

相关申请的交叉引用

本申请要求德国专利申请DE 10 2014 221 175.1的优先权，通过引用将其内容并入于此。

技术领域

本发明涉及一种投射曝光系统的照明光学单元，特别是涉及其中自由电子激光器(FEL)充当辐射源的投射曝光系统的照明光学单元。本发明进一步涉及包含至少一个这种照明光学单元的照明系统、包含照明光学单元和投射光学单元的光学系统，以及包含至少一个这种照明光学单元的投射曝光系统。最后本发明涉及制造微结构或纳米结构组件的方法，以及根据此方法制造的组件。

背景技术

在投射曝光设备中，辐射源发出的照明辐射常规上会在前往物场中要照明的掩模母版的旅程中多次偏转。这会导致非所要的辐射损失和/或非所要的偏振效应。

发明内容

本发明的目的为改进用于将照明辐射引导至物场的照明光学单元。

此目的由包含多个辐射反射组件的照明光学单元实现，其中所有辐射反射组件布置为使得具有照明辐射的光束在这些组件处以相同方式偏转。

照明光学单元特别用来将照明辐射从中间焦点传输至物场。照明光学单元适合用于具有单一扫描仪的投射曝光设备。照明光学单元可以特别有利的方式用于具有多个扫描仪的投射曝光系统，特别是其中将来自共享辐射源，特别是自由电子激光源(FEL)的照明辐射供应给多个扫描仪的投射曝光系统。特别地，照明辐射可为EUV辐射，即波长范围为从2nm至30nm，特别是范围为从2nm至15nm、特别是具有波长13.5nm的辐射。

根据本发明确定的是，通过以有目标方式选择的(特别是优化的)辐射反射组件的布置，特别是考虑到照明辐射所导致的偏转角度，可改善照明光学单元的光学特性。特别是，可减少辐射耗损和/或将偏振程度维持在特定范围内，特别是低于20％。

根据本发明的一个方面，辐射反射组件中的至少二个，特别是精确的二个，实施为分面元件，特别是分面镜。特别地，其可为场分面镜和光瞳分面镜。

辐射反射组件更包含至少一个其它反射镜。特别地，该至少一个其它反射镜布置在光束路径中第二分面镜下游。替代地，该至少一个其它反射镜布置在光束路径中第一分面镜上游。

根据本发明的另一方面，在光束路径方向上，辐射反射组件包含第一分面镜、第二分面镜以及精确的一个其它反射镜。后者布置在第二分面镜与物场之间的光束路径中或第一分面镜上游。

特别地，照明光学单元实施为使得精确的一个反射镜布置在第二分面镜与物场之间的光束路径中。

特别地，照明光学单元包含精确的三个反射镜元件。在此，两个分面镜包含多个辐射反射单独分面。

特别地，布置在光束路径中第二分面镜下游或第一分面镜上游的其它反射镜并未分面，即具有单体实施例。

特别地，该其它反射镜实施为成像反射镜，即具有成像效果的反射镜。特别地，该其它反射镜具有非平面反射面。

根据本发明的另一方面，照明光学单元的光束路径中的第三反射镜特别用于将第二分面镜(其特别形成光瞳分面镜)成像至布置在照明光学单元下游的投射光学单元内的机械上无法达到的平面中，特别是成像至投射光学单元的机械上无法达到的光瞳平面中。

作为这种照明光学单元实施例的结果，可简化包含照明光学单元以及分配至此的投射光学单元的光学系统的设计，特别是包含此光学系统的扫描仪的设计。