[发明专利]逐层组装的多层叠层转印膜

说明书

背景技术

多层光学膜(MOF)一直通过聚合物共挤出法制得。最终的膜可包括多个高折射率和低折射率的交替聚合物层，并且其可被称为布拉格反射器或一维光子晶体。光可基于在层叠堆交接面所反射光的相长干涉，在不同波长下选择性地反射或透射。MOF主要被设计来反射红外光和/或可见光。用于MOF的常见聚合物包括PEN、PMMA、co-PMMA、PET、co-PET和co-PEN。

MOF通常由烃聚合物制成，因此其光稳定性、热稳定性和化学稳定性可能存在缺陷。另一方面，真空沉积(例如，溅射、蒸镀、CVD、ALD)可用于制备具有改善稳定性的无机光学涂层；然而真空沉积需要昂贵的设备并且通常受到低生产能力的困扰。

发明内容

本公开涉及逐层组装的多层叠层转印膜、形成这些叠层转印膜的方法和使用这些叠层转印膜的方法。

在一个方面，转印膜包括具有小于1微米的均匀厚度并包括多个子原层对的原层。每个子原层对独立地包含具有第一键合基团的材料和具有互补的第二键合基团的材料。材料中的至少一种为热稳定材料。

在另一方面，方法包括将本文所述的转印膜层合至受体基底，并烘除(一个或多个)原层中的牺牲材料以形成具有一个或多个层的光学叠堆。

在另一个方面，形成转印膜的方法包括沉积一个或多个顺序地在彼此上的共延子原层对，以形成原层。每个子原层对包含具有第一键合基团的材料和具有互补的第二键合基团的材料，并且材料中的至少一种为热稳定材料。每个子原层对通过逐层自组装形成。

通过阅读以下具体实施方式，这些以及各种其它特征和优点将显而易见。

附图说明

结合以下附图，参考对本公开各种实施方案的详细说明，可更全面地理解本公开，其中：

图1为形成转印膜和光学叠堆的例示性方法的示意性工艺流程图；

图2为通过逐层处理形成转印膜原层的例示性方法的示意性工艺流程图；

图3为EX-1的单面AR涂层、EX-2的双面AR涂层和未涂覆涂层玻璃片对照物的透射光谱图；

图4为EX-3的单面BBAR涂层和未涂覆涂层对照物的载玻片在烘除之后的透射光谱图；

图5为EX-4与未涂覆涂层的裸蓝宝石对照物的前表面反射光谱图；

图6为经过层合、转印和烘除之后玻璃上的7层叠层堆布拉格反射器的横截面SEM图像；并且

图7为EX-6的经过层合、转印和烘除之后玻璃上的7层叠层堆布拉格反射器的反射光谱图。

具体实施方式

在下面的具体实施方式中，参考了形成具体实施方式一部分的附图，并且在附图中通过举例说明的方式示出了若干具体实施方案。应当理解，在不脱离本公开的范围或实质的情况下，设想并可形成其它实施方案。因此，以下详细说明不被认为具有限制性意义。

除非另外指明，否则本文使用的所有科学和技术术语具有在本领域中普遍使用的含义。本文给出的定义旨在有利于理解本文频繁使用的某些术语，并且不旨在限制本公开的范围。

除非另外指出，否则说明书和权利要求书中使用的表达特征尺寸、数量和物理特性的所有数字均应理解为在所有情况下均由术语“约”修饰。因此，除非有相反的说明，否则在上述说明书和所附权利要求书中列出的数值参数均为近似值，这些近似值可根据本领域的技术人员使用本文所公开的教导内容寻求获得的特性而变化。

通过端点表述的数值范围包括在该范围内包含的所有数值(例如，1至5包括1、1.5、2、2.75、3、3.80、4和5)和该范围内的任何范围。

除非本文内容以其它方式明确指定，否则本说明书和所附权利要求中使用的单数形式“一个”、“一种”和“所述”涵盖具有多个指代物的实施方案。

除非本文内容以其它方式明确指定，否则本说明书和所附权利要求书中使用的术语“或”一般以其包括“和/或”的意义使用。

如本文所用，“具有”、“包括”、“包含”、“含有”等等均以其开放性意义使用，并且一般意指“包括但不限于”。应当理解，“基本上由...组成”和“由...组成”等等包含在“包括”等等之中。

在本公开中：

“烘除”是指通过热解、燃烧、升华或蒸发基本上去除存在于层中的牺牲材料的工艺；

“烘除温度”是指在通过热解、燃烧、升华或蒸发基本上去除原层中牺牲材料的工艺中达到的最高温度；

“使...燃烧”或“燃烧”是指在氧化气氛中加热包含有机材料的层使得有机材料与氧化剂发生化学反应的工艺；