[发明专利]晶片的缺陷测量装置有效
申请号: | 201580041304.5 | 申请日: | 2015-07-28 |
公开(公告)号: | CN106574900B | 公开(公告)日: | 2019-07-09 |
发明(设计)人: | 姜憄勋;韩基润 | 申请(专利权)人: | 爱思开矽得荣株式会社 |
主分类号: | G01N21/95 | 分类号: | G01N21/95;H01L21/66 |
代理公司: | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人: | 王艳波;张颖玲 |
地址: | 韩国庆*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 晶片 缺陷 测量 装置 | ||
【说明书】:
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