[发明专利]磁共振成像装置和高频磁场匀场参数决定方法有效

专利信息
申请号: 201580031786.6 申请日: 2015-06-10
公开(公告)号: CN106659416B 公开(公告)日: 2019-09-24
发明(设计)人: 吉田琢;仓谷厚志 申请(专利权)人: 株式会社日立制作所
主分类号: A61B5/055 分类号: A61B5/055
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 范胜杰;曹鑫
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 磁共振 成像 装置 高频 磁场 参数 决定 方法
【说明书】:

在MRI装置中,为了与被检体和摄像方式无关地短时间地进行高精度的RF匀场,并获得高品质的图像,具有数据库,该数据库在将计算出了匀场参数的状态作为被检体的基准状态时,预先保存相对于基准状态的变化所对应的匀场参数,在摄像时,使用与相对于该基准状态的变化量所最接近的变化量对应地,在数据库中登记的匀场参数。数据库中登记有根据过去实测出的结果而计算出的匀场参数。

技术领域

本发明涉及磁共振成像(以下称为“MRI”)技术,特别地涉及降低高频磁场(以下称为“RF”)脉冲的照射不均匀的技术。

背景技术

MRI装置是主要利用了氢原子核的核磁共振现象的医用图像诊断装置。

一般地,在对设置在静磁场中的被检体施加断层梯度磁场的同时,照射具有特定频率的RF脉冲,激励想要拍摄的断面内的核磁化。接着,对通过相位编码梯度磁场和读取梯度磁场的施加而激励的核磁化赋予平面位置信息,测量核磁化所产生的核磁共振信号(回波信号)。回波信号对应于平面位置信息而被填充在被称为k空间的测量空间中,通过傅里叶逆变换而被图像化。

近年来,为了提高图像的SN比,推进MRI装置的高磁场化,且推进具有3T以上的静磁场强度的装置的普及。在高磁场MRI装置中能够获得高对比度的图像,然而有时会在图像中出现不均。作为该图像不均的原因,可列举:对摄像区域照射RF脉冲的发送线圈在摄像区域中形成的旋转磁场的不均。将其称作发送灵敏度分布(B1分布)的不均。

由于当随着高磁场化,所照射的电磁波的磁共振频率变高时,在生物体内的电磁波的波长变得与生物体的大小几乎同等规模,电磁波的相位发生变化等理由,导致发生了B1分布的不均。

作为降低B1分布不均的方法,有RF匀场,其使用具有多个通道的发送线圈,控制对各通道施加的RF脉冲的相位和振幅来降低摄像区域的B1分布的不均。在RF匀场中,根据各通道所作出的B1分布来决定对各通道施加的相位和振幅(以下称为“RF匀场参数”)。

例如,取得翻转角不同的多张图像,并利用对每个脉冲序列而定义的图像信号强度的理论式来对取得的图像信号进行拟合,由此来计算各通道的B1分布(例如,参照专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:国际公开第2011/155461号

发明内容

发明要解决的课题

B1分布依赖于被检体的体型或组织结构等,因此需要针对每个被检体、每个摄像部位来测量各通道的B1分布。B1分布的计算需要花费预定的时间,因此摄像时间延长。

但是,从反面来说,如果是相同体型的被检体,则对于头部、腹部等每个摄像部位来说B1分布几乎等同。利用这一点,有如下方法:以标准体型的被检体配置在磁场中心为前提,预先针对每个部位计算B1分布并登记基于此而决定出的每个通道的RF匀场参数,在摄像时使用该登记的RF匀场参数。由此,在摄像时不必计算B1分布而能够缩短摄像时间。但是,在与上述前提相差甚远的状态的摄像、相差甚远的体型的被检体的摄像中,无法进行精度高的RF匀场。即摄像方式的制约较大。

本发明是鉴于上述情况而作出的,目的在于提供一种在MRI装置中不论被检体和摄像方式如何均短时间地进行高精度的RF匀场,得到高品质图像的技术。

用于解决课题的手段

本发明具备数据库,其在将计算出匀场参数的状态设为被检体的基准状态时,预先保存与相对于基准状态的变化对应的匀场参数,在摄像时,使用对应于相对于该基准状态的变化量所最接近的变化量在数据库中登记的匀场参数。数据库中登记有根据过去实测出的结果而计算出的匀场参数。

发明效果

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