[发明专利]磁共振成像装置和高频磁场匀场参数决定方法

权利要求书

1.一种磁共振成像装置，其特征在于，

该磁共振成像装置具备：

发送线圈，其具有向配置在静磁场中的被检体照射以预先决定的高频磁场匀场参数所确定的高频磁场脉冲的多个通道；

匀场参数决定部，其决定从各个所述通道照射的高频磁场脉冲的高频磁场匀场参数；以及

测量控制部，其使用通过所述匀场参数决定部所决定的高频磁场匀场参数，测量从所述被检体产生的回波信号，

所述匀场参数决定部具备：

匀场数据库，其对应于所述被检体的预定区域相对于预先决定的基准状态的变化量，登记有从各个所述通道照射的所述高频磁场脉冲的所述高频磁场匀场参数；

变化量计算部，其计算所述被检体的预定区域的变化量；以及

匀场参数提取部，其提取对应于与计算出的所述变化量最接近的值，在所述匀场数据库中登记的所述高频磁场匀场参数，

所述匀场数据库针对每个通道数，登记有所述高频磁场匀场参数，

所述匀场参数决定部还具备：使用所述高频磁场匀场参数来计算在照射了所述高频磁场的情况下的高频磁场分布的均匀度的均匀度计算部，

所述通道数为4，

所述匀场数据库具备2通道用的高频磁场匀场参数和4通道用的高频磁场匀场参数，

所述匀场参数提取部提取所述2通道用的所述高频磁场匀场参数和4通道用的所述高频磁场匀场参数，

所述均匀度计算部分别计算使用所述2通道用的高频磁场匀场参数的情况下的所述均匀度和使用所述4通道用的高频磁场匀场参数的情况下的所述均匀度，

所述匀场参数决定部将计算出的均匀度高的一方的所述高频磁场匀场参数决定为在测量中使用的高频磁场匀场参数。

2.根据权利要求1所述的磁共振成像装置，其特征在于，

所述预定区域是包含所述静磁场的中心的面上的区域，

所述变化量是所述预定区域的重心位置相对于所述静磁场的中心的位移量。

3.根据权利要求1所述的磁共振成像装置，其特征在于，

所述变化量是所述被检体的体型相对于预先决定的基准体型的差异。

4.根据权利要求1所述的磁共振成像装置，其特征在于，

在所述匀场数据库中，对应于在所述静磁场的方向的多个位置的所述变化量，登记有所述高频磁场匀场参数，

所述变化量计算部计算在所述多个位置的所述变化量。

5.根据权利要求1所述的磁共振成像装置，其特征在于，

在所述匀场数据库中，针对所述静磁场的方向的多个位置的每个位置，与所述变化量对应地登记有所述高频磁场匀场参数，

所述匀场参数提取部，从对应于与摄像断层位置最接近的位置所登记的变化量中提取所述高频磁场匀场参数。

6.根据权利要求1所述的磁共振成像装置，其特征在于，

所述预定区域是所述被检体的断面的一部分区域。

7.根据权利要求1所述的磁共振成像装置，其特征在于，

所述匀场参数决定部还具备：

高频磁场分布计算部，其计算被照射到摄像区域的高频磁场分布；

匀场参数计算部，其计算用于降低所计算出的所述高频磁场分布的不均的所述高频磁场匀场参数；以及

匀场数据库更新部，其对应于计算出的所述变化量，在所述匀场数据库中登记所述计算出的所述高频磁场匀场参数，并更新所述匀场数据库。

8.根据权利要求7所述的磁共振成像装置，其特征在于，

在所述变化量计算部所计算出的变化量与在所述匀场数据库中登记的最接近于该变化量的变化量之间的差为预先决定的阈值以上的情况下，所述匀场数据库更新部使所述高频磁场分布计算部计算所述高频磁场分布，并使所述匀场参数计算部计算用于降低该高频磁场分布的不均的所述高频磁场匀场参数，并将该计算出的高频磁场匀场参数登记到所述匀场数据库中。