[发明专利]用于电子装置封装的设备和技术

权利要求书

1.一种用于在衬底上提供涂层的涂层系统，所述系统包括：

封闭的喷墨打印系统，其配置来将图案化有机材料沉积于在发光装置的至少一部分上方的沉积区域中，所述发光装置制造于所述衬底上；

封闭的固化模块，其包括卡盘，所述卡盘配置来将所述衬底容纳在所述封闭的固化模块的紫外线处理区域中，所述紫外线处理区域配置成提供紫外线处理以固化所述图案化有机材料；以及

封闭的衬底转移模块，其配置成从不同于所述封闭的喷墨打印系统或所述封闭的固化模块中的一个或更多个的环境的环境接收所述衬底；

其中，所述卡盘配置来分布足够的加压气垫以使所述衬底漂浮在所述卡盘上方。

2.根据权利要求1所述的涂层系统，其中，所述沉积区域与所述发光装置重叠。

3.根据权利要求2所述的涂层系统，其中，所述卡盘包括一个或更多个支撑机构，所述支撑机构配置来放置成与所述衬底处于物理接触，其中所述物理接触局限在与位于所述衬底的在所述沉积区域外部的区域相对应的范围中。

4.根据权利要求1所述的涂层系统，其中，所述卡盘包括多孔陶瓷材料，并且其中，通过迫使气体穿过所述多孔陶瓷材料来构建所述气垫。

5.根据权利要求1所述的涂层系统，其中，所述气垫是使用加压气体区域与至少一局部真空区域的组合来构建的。

6.根据权利要求5所述的涂层系统，其还包括配置来回收和再循环所述气垫的加压气体或排空气体的系统。

7.根据权利要求1所述的涂层系统，其中，所述封闭的固化模块配置成：（1）固持所述衬底静止历时一持续时间以使图案化有机材料分散以形成层从而覆盖所述发光装置；以及（2）提供所述紫外线处理而不需要所述衬底的在固持操作与紫外线处理操作之间的另外的运动。

8.根据权利要求7所述的涂层系统，其中，所述衬底是玻璃衬底。

9.根据权利要求7所述的涂层系统，其中，所述衬底是聚合物衬底。

10.根据权利要求1所述的涂层系统，其中，所述固化模块的所述紫外线处理区域包括门架安装式紫外线源，所述门架配置成在固化期间相对于所述衬底来传输所述紫外线源。

11.根据权利要求10的涂层系统，其中，安装在所述门架上的UV光源是UV光源的线性阵列。

12.根据权利要求11的涂层系统，其中，所述线性阵列的UV光源是发光二极管阵列。

13.根据权利要求11的涂层系统，其中，线性阵列至少与所述衬底一样宽或一样长。

14.根据权利要求1所述的涂层系统，其中，所述封闭的喷墨打印系统和所述封闭的固化模块的环境是处于或接近气氛压力的受控处理环境。

15.根据权利要求14所述的涂层系统，其中，所述受控处理环境包括用于与沉积于所述衬底上的种类进行最小程度的反应或不反应的非反应性气体。

16.根据权利要求15所述的涂层系统，其中，所述受控处理环境包括高于气氛压力的氮气。

17.根据权利要求14所述的涂层系统，其中，所述受控处理环境具有少于百万分之100的氧气和少于百万分之100的水蒸气。

18.根据权利要求14所述的涂层系统，其中，所述受控处理环境包括至少部分地使用多个风扇过滤器单元所控制的微粒污染水平，所述风扇过滤器单元定位成沿着由所述衬底横穿的路径或在所述路径附近。

19.根据权利要求14所述的涂层系统，其中，所述封闭的喷墨打印系统和所述封闭的固化模块的受控处理环境大致是相同的。

20.根据权利要求1所述的涂层系统，其中，所述沉积区域包括长度维度和宽度维度；以及

其中所述紫外线处理区域包括紫外线源，所述紫外线源包括UV发射器阵列，阵列在至少一个维度中具有一跨度，所述跨度大于所述长度维度或所述宽度维度中的至少一者。

21.根据权利要求20所述的涂层系统，其中，所述UV发射器阵列在两个维度中延伸。

22.根据权利要求20所述的涂层系统，其中，所述UV发射器阵列包括发光二极管阵列。