[实用新型]一种防止污染的PCIE卡槽结构有效
| 申请号： | 201521034560.5 | 申请日： | 2015-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN205159633U | 公开（公告）日： | 2016-04-13 |
| 发明（设计）人： | 刘进锁 | 申请（专利权）人： | 浪潮电子信息产业股份有限公司 |
| 主分类号： | H01R13/52 | 分类号： | H01R13/52;H01R12/71 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 250101 山东*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 防止 污染 pcie 结构 | ||
【权利要求书】：
1.一种防止污染的PCIE卡槽结构，包括PCIE卡槽，其特征在于：在所述PCIE卡槽的卡槽口上设置有密封圈，所述密封圈中部位置设置有工字型结构，所述工字型结构的形状与卡槽口的形状相配合，且在插PCIE卡时工字型结构被撑开。
2.根据权利要求1所述的防止污染的PCIE卡槽结构，其特征在于：所述密封圈为高温胶带。
3.根据权利要求2所述的防止污染的PCIE卡槽结构，其特征在于：所述高温胶带的温度范围为-196℃-300℃，具有耐气候性、抗老化及耐强酸强碱性。
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