[实用新型]太阳能吸热膜用的镀膜装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及卷材镀膜技术领域，特别涉及一种太阳能吸热膜用的镀膜 装置。

背景技术

太阳能吸热膜的传统生产工艺中，镀膜装置的各个腔室连通呈直线式结 构，其镀膜方法如图1所示，在基材放卷并进行离子处理后，先送入隔气室1 进行抽真空处理，再送入镀膜室2进行镀膜，若还需要进行二次镀膜，则在每 次镀膜前，基材都需要先送入隔气室进行抽真空处理，即在镀膜装置中，每个 镀膜室前端必须配置一个隔气室，否则太阳能吸热膜的镀膜效果将会受到影 响。该方式的镀膜装置结构庞大，造价较高，设备成本高。

另外，在传统的镀膜装置中，对基材一般采用单点弧靶进行离子处理，但 在实践中，单点弧靶的离化率相当低，基材表面难以得到较好的清洁，因此其 镀膜效果也较差。

而在镀膜室中，由于镀膜室内的反应性气体沿着同一个方向流动，其碰撞 几率较低，因此与磁控靶溅射处的离子反应机会也少，其镀膜效率较低。同时， 目前的磁控靶采用3路磁铁，形成1个环形的溅射跑道，该结构的磁控靶溅射 效率低，所溅射出的离子非常有限，因此在工件上形成的镀膜层也容易出现厚 度达不到标准的现象，一般需要经过至少较多次的反复镀膜，这就需要采用多 个连续的镀膜室，使得设备结构庞大复杂，产品的加工成本高，不利于提高产 品的市场竞争力。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服现有技术的不足，提供一种镀膜效果较好、设 置结构紧凑、成本较低的太阳能吸热膜用的镀膜装置。

本实用新型的技术方案为：一种太阳能吸热膜用的镀膜装置，包括依次连 接的多个真空室，多个真空室包括进料室、离子处理室、镀膜室和出料室，任 意两个相邻真空室的连接处设有气体隔离空间，气体隔离空间内设置气体隔离 机构；气体隔离机构包括顶板、传动辊、压辊和弹簧，传动辊设于压辊下方， 带状基材从传动辊和压辊的相接处通过，顶板底面设有定位块，压辊上方通过 弹簧与定位块连接。气体隔离机构两侧，各真空室形成独立的密封空间，可省 去传统镀膜装置中的隔气室，从而简化设备结构，降低其制造成本，尤其是当 基材需要进行不同成分的膜层镀膜时，可有效防止两个镀膜室之间的不同成分 气体相互干扰，避免出现渗气现象。气体隔离机构中，弹簧的设置使压辊与传 动辊之间形成弹性接触，使带状基材可顺畅地从压辊与传动辊的相接处通过。

所述传动辊中心设有传动轴，压辊中心设有压辊轴，传动辊和压辊轴两端 均设置轴承，压辊轴上的轴承上方设置弹簧，传动轴和压辊轴位于同一侧的外 端通过传动齿轮组连接，压辊轴通过同步带轮外接第一驱动机构，传动轴和压 辊轴同步运动。第一驱动机构采用现有市面通用的驱动机构即可。

所述离子处理室内设有多弧点弧靶装置，多弧点弧靶装置带有两个旋转磁 场。两个旋转磁场中，每个磁场上可产生相应的弧斑，弧斑的斑点大于2个， 因此多弧点弧靶的离化率比单点弧靶的离化率要大很多，离子的能量较高，能 将基材上的有机物及其它吸附力较强的污物溅射出来，有利于提高镀膜层的附 着力，也可有效地提高靶材的有效利用率，延长靶材的使用时间，另外靶材面 积也较大，因此多弧点弧靶比传统单点弧靶的利用率多10倍以上。

所述多弧点弧靶装置包括第一磁铁、磁铁旋转支板、旋转电机、靶座、靶 罩、靶材、引弧气缸、引弧密封座和引弧电极，旋转电机的输出端与磁铁旋转 支板连接，磁铁旋转支板两端分别设置第一磁铁，第一磁铁和磁铁旋转支板设 于靶座内，靶座下方设置靶罩，靶材设于靶罩内，引弧气缸和引弧密封座相连 接并设于靶座外侧，引弧气缸的末端设置引弧电极，引弧电极设于靶材下方。 磁铁旋转支板两端的第一磁铁处分别形成旋转磁场。

所述靶座外周设有靶法兰，引弧气缸通过引弧密封座固定于靶法兰上；

靶座与靶法兰的连接处设有绝缘套；

旋转电机下方设有电机固定板，旋转电机通过电机固定板与靶座固定连 接。

所述镀膜室内设有中频磁控靶，中频磁控靶上方设有均气板。均气板的设 置可改变反应性气体在磁控靶上的气流方向，增加了镀膜室内反应性气体相互 碰撞的机率，从而提高了反应性气体与靶溅射出来的离子反应的机会，有效提 高镀膜的效果。

所述均气板为拱形的薄板结构，均气板包围于中频磁控靶外周的上半部。 实质上，均气板的设置，将抽气室(即传统设备中的隔气室)与镀膜室融为一 体，使设备的结构大为简化，大大缩短了设备的长度，降低了设备的造价。