[实用新型]一种硅片开槽机

说明书

技术领域

本实用新型涉及半导体材料加工技术领域，尤其是涉及一种硅片开槽机。

背景技术

在半导体晶片加工中，需在硅片表面由酸行开槽处理。现有技术中，硅片开槽用开槽机的使用方法是：将待开槽硅片装入花篮内，花篮整个放入混合酸液中，待腐蚀时间达到，将花篮提出酸液。该机存在以下缺点：1）酸液在腐蚀硅片过程中，将释放大量反应热，该热能不能及时散去，其结果是导致酸液温度升高，而高温酸液必将影响反应的正常进行；2）反应完成后，从酸液取出的花篮带出大量酸液，该酸液不能得到很好处理，容易造成机台的污染。

发明内容

本实用新型的目的在于克服现有技术中存在的缺点，提供一种硅片开槽机，该机通过花篮吊架将装有硅片的花篮放入酸液槽内，反应后先提升花篮后将花篮置于容纳槽内控液；本开槽机还设有对酸液进行降温的降温管，采用的技术方案是：一种硅片开槽机，包括机架，在所述机架上设有机台，所述机台的上方为控制部分，所述机台上设有酸液槽，其特征在于：所述开槽机包括设置在所述酸液槽上方的花篮吊装部件，所述花篮吊装部件包括电机，所述电机的输出轴连接偏心轮，所述偏心轮上固定有连接杆，所述连接杆的底部设有花篮吊架。

本实用新型的技术特征还有：所述花篮吊架包括底板，所述底板的周边固定有花篮吊件。

本实用新型的技术特征还有：固定在所述底板上的花篮吊件为四个。

本实用新型的技术特征还有：所述酸液槽还连接降温管，所述降温管上设有控制阀。

本实用新型的技术特征还有：所述降温管为金属管，所述金属管表面上设有四氟乙烯层。

本实用新型的技术特征还有：所述机台上、酸液槽的一侧还设有容纳槽。

本实用新型的技术特征还有：所述酸液槽上还设有液位计。

本实用新型的有益效果在于：本开槽机通过偏心轮升降花篮，且酸腐蚀后的花篮可静置于酸液槽上方，使得酸液从花篮或者花篮内的硅片上流出，以防止酸液对机台造成污染；降温管中通有氟利昂用于酸液的降温，保证反应温度的稳定；液位计直观显示了酸液液位的高低；本开槽机具有操作便利、污染小、反应效果好之优点。

附图说明

附图1是本实用新型结构示意图，附图2是本实用新型去掉透明罩板后结构示意图，附图3是花篮吊架结构示意图，其中1是机架，2是机台，3是酸液槽，4是花篮吊装部件，41是电机的输出轴，42是偏心轮，43是连接杆，44是花篮吊架，441是底板，442是花篮吊件，5是控制阀，6是降温管，7是液位计，8是控制面板，9是透明罩板，10是容纳槽。

具体实施方式

下面结合附图，对本实用新型的具体实施方式进行说明。本实用新型公开了一种硅片开槽机，将硅片放入开槽机上的酸液槽内，腐蚀一定时间后，完成硅片的腐蚀开槽。该开槽机包括机架1，在机架1上设有机台2，机台2的上方为控制部分，该控制部分包括控制面板8，在控制面板8上有启动按钮、电流计等部件，机台2上设有酸液槽3和容纳槽10。

开槽机还包括设置在酸液槽3上方的花篮吊装部件4，使用时，将装有硅片的花篮挂在花篮吊装部件4的花篮吊架44上，具体结构是：花篮吊装部件4包括电机（图中未示出），电机的输出轴41连接偏心轮42，偏心轮42上固定有连接杆43，连接杆43的底部设有花篮吊架44。

本实施例中花篮吊架44包括底板441，底板441的周边固定有花篮吊件442。本处固定在底板441上的花篮吊件442为四个，即可同时将四个花篮挂在花篮吊件上实现硅片的腐蚀。

酸液槽3还连接降温管6，降温管6中充有氟利昂，降温管6上还设有控制阀5。本实施例中降温管6为金属管，为保温目的，在金属管表面上设有四氟乙烯层。机台2上、酸液槽3的一侧还设有容纳槽10，酸液槽3上还设有液位计7。

使用时，将花篮挂接在花篮吊架44上，打开电机，偏心轮42转动，花篮下降至酸液槽中液面至下，开始腐蚀开槽；待时间达到后，电机反转，花篮升高后离开酸液槽，静置一段时间，使得硅片上的酸液回流到酸液槽中；最后，将花篮放置于容纳槽10中继续控酸，直至酸液不再流下，花篮提离开槽机。

当然，上述说明并非对本实用新型的限制，本实用新型也不仅限于上述举例，本技术领域的普通技术人员在本实用新型的实质范围内所做出的变化、改型、添加或替换，也属于本实用新型的保护范围。