[实用新型]喷洒涂布光阻用的晶圆载座以及光阻喷洒涂布机

权利要求书

1.一种喷洒涂布光阻用的晶圆载座，其特征在于，包括：

一晶圆承载平台，其具有相对的上表面及下表面、以及一环绕该上表面及该下表面的 侧表面，其中该上表面用以承载一待喷洒涂布光阻的晶圆，该上表面的面积小于该下表面 的面积，且该待喷洒涂布光阻的晶圆的面积大于该晶圆承载平台的该上表面的面积；

一支撑座，抵接于该晶圆承载平台的该下表面，用以支撑该晶圆承载平台；

多个吹气孔，分布于该晶圆承载平台的该侧表面；

多个吹气通道，位于该晶圆承载平台内，且每一吹气通道对应连接所述吹气孔之一；以 及

一气体供应管路，设置于该支撑座内，且连接一气体供应源以及所述吹气通道。

2.根据权利要求1所述的喷洒涂布光阻用的晶圆载座，其特征在于，该侧表面与该下表 面夹一锐角。

3.根据权利要求2所述的喷洒涂布光阻用的晶圆载座，其特征在于，所述吹气通道与该 侧表面垂直。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的喷洒涂布光阻用的晶圆载座，其特征在于，该晶 圆承载平台的该上表面还包括有多个真空抽气孔，所述真空抽气孔连接至一真空抽气泵， 以在待喷洒涂布光阻的晶圆放置在该晶圆承载平台的该上表面后真空吸附该待喷洒涂布 光阻的晶圆。

5.根据权利要求4所述的喷洒涂布光阻用的晶圆载座，其特征在于，该气体供应源所供 应的气体为空气、氮气或惰性气体。

6.一种光阻喷洒涂布机，其特征在于，包括：

一晶圆载座，该晶圆载座包括：

一晶圆承载平台，其具有相对的上表面及下表面、以及一环绕该上表面及该下表面的 侧表面，其中该上表面用以承载一待喷洒涂布光阻的晶圆，且该上表面的表面积小于该下 表面的表面积；

一支撑座，抵接于该晶圆承载平台的该下表面，用以支撑该晶圆承载平台；

多个吹气孔，分布于该晶圆承载平台的该侧表面；

多个吹气通道，位于该晶圆承载平台内，且每一吹气通道对应连接所述吹气孔之一；及

一气体供应管路，设置于该支撑座内，且连接一气体供应源以及所述吹气通道；以及

一光阻喷洒涂布头，可移动地设置于该晶圆载座上方，且向该晶圆表面喷洒涂布光阻。

7.根据权利要求6所述的光阻喷洒涂布机，其特征在于，该侧表面与该下表面夹一锐 角。

8.根据权利要求7所述的光阻喷洒涂布机，其特征在于，所述吹气通道与该侧表面垂 直。

9.根据权利要求6至8中任一项所述的光阻喷洒涂布机，其特征在于，该晶圆承载平台 还包括有多个真空抽气孔，所述真空抽气孔连接至一真空抽气泵，以在待喷洒涂布光阻的 晶圆放置在该晶圆承载平台的该上表面后真空吸附该待喷洒涂布光阻的晶圆。

10.根据权利要求9所述的光阻喷洒涂布机，其特征在于，该气体供应源所供应的气体 为空气、氮气或惰性气体。