[实用新型]一种成像薄膜有效

专利信息
申请号: 201520794970.3 申请日: 2015-10-14
公开(公告)号: CN205333897U 公开(公告)日: 2016-06-22
发明(设计)人: 张健 申请(专利权)人: 昇印光电(昆山)股份有限公司
主分类号: G02B3/00 分类号: G02B3/00
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 党晓林
地址: 215316 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 成像 薄膜
【权利要求书】:

1.一种成像薄膜,其特征在于,包括:由一种聚合物制成的本体;

所述本体的一表面上形成有聚焦结构;

所述本体的内部形成有图文结构,所述图文结构与所述聚焦结构相适配从而成像。

2.根据权利要求1所述的成像薄膜,其特征在于,所述本体和所述聚焦结构为一体结构。

3.根据权利要求2所述的成像薄膜,其特征在于,所述本体由第一聚合物制成,所述聚焦结构由材质与第一聚合物不同的第二聚合物制成,在所述本体与所述聚焦结构之间形成有融合部。

4.根据权利要求3所述的成像薄膜,其特征在于,所述第二聚合物和所述第一聚合物之间的折射率之差小于0.5。

5.根据权利要求1或2所述的成像薄膜,其特征在于,所述聚焦结构包括一个或多个聚焦单元,多个所述聚焦单元之间的间距为1微米~200微米。

6.根据权利要求1或2所述的成像薄膜,其特征在于,所述聚焦结构包括一个或多个聚焦单元,多个所述聚焦单元中的至少一个为微透镜或菲涅尔透镜。

7.根据权利要求1或2所述的成像薄膜,其特征在于,所述聚焦结构的外表面上设置有反射结构。

8.根据权利要求7所述的成像薄膜,其特征在于,所述反射结构的厚度为0.02微米~5微米。

9.根据权利要求1或2所述的成像薄膜,其特征在于,所述图文结构为凹槽结构。

10.根据权利要求1或2所述的成像薄膜,其特征在于,所述聚合物包括热固化树脂或光固化树脂。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昇印光电(昆山)股份有限公司,未经昇印光电(昆山)股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201520794970.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top