[实用新型]金属有机化学气相沉积电阻加热器有效
申请号: | 201520769447.5 | 申请日: | 2015-09-29 |
公开(公告)号: | CN204959033U | 公开(公告)日: | 2016-01-13 |
发明(设计)人: | 权永德 | 申请(专利权)人: | 上海荷缘光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/46 | 分类号: | C23C16/46 |
代理公司: | 上海领洋专利代理事务所(普通合伙) 31292 | 代理人: | 罗晓鹏 |
地址: | 201114 上海市闵行*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 金属 有机化学 沉积 电阻 加热器 | ||
技术领域
本实用新型涉及金属有机化学气相沉积设备领域,尤其涉及一种电阻加热器。
背景技术
金属有机化学气象沉积法(MetalOrganicChemicalVaporDeposition,简称MOCVD),是在基板上成长半导体薄膜的一种方法,实际应用中基板可以是发光二极管外延片或者芯片。MOCVD的外延工艺速度快,产量高,适用于高亮度发光二极管的外延成膜。MOCVD成膜设备如图1所示为一气相沉积炉,其包括一反应室1,其内为一反应腔2,反应腔中安装有一加热器3,加热器3上面置有一承载盘4。成长薄膜时,待成膜基板5放在承载盘4上,通过加热器3将待成膜基板5加热,然后通过载流气体将反应源气体流经反应腔,反应源气体在加热后的待成膜基板上面发生化学反应,沉积生长薄膜。
已知用于气相沉积炉的加热器,如中国台湾专利公告第303485号所述的加热器,其包括四层环形金属板,如图2所示,自上而下分别为第一反射板301、第一基座302、第二反射板303和第二基座304;以及安装在四层环形金属板上面的一加热体。第一反射板301和第二反射板303用于将加热体产生的热量反射至承载盘4。其中第一反射板301为一片整体金属板,在气相沉积设备中,长期处在剧烈的高低温变化下,容易变形,一方面造成反射效果降低,另一方面容易出现短路现象,严重缩短加热器使用寿命。
实用新型内容
本实用新型针对现有技术存在的技术问题,目的在于提供一种反射板不易变形,使用寿命得以延长的金属有机化学气相沉积电阻加热器。
本实用新型的金属有机化学气相沉积电阻加热器包括:
四层环形金属板,上下平行设置,分别具有对应的沿螺旋线排列的若干圆孔,自上而下分别为第一反射板、第一基座、第二反射板和第二基座,所述第一反射板、第一基座、第二反射板和第二基座互相由若干固定组件和若干定位件连接固定;
一加热体,包括呈螺旋线状铺设在所述第一反射板上的加热线圈,所述加热线圈由穿设在所述若干圆孔中的若干支撑件支撑;
所述第一反射板分为三段,其中每一段相比于现有技术中未分段的整个环形反射板受热面积要小,相对不容易变形。
本实用新型的一较佳实施例中,第一反射板和第一基座之间的间隙固定有若干陶瓷绝缘件,用于固定所述若干支撑件以及绝缘。
本实用新型的一较佳实施例中,所述加热体还包括沿螺旋线等距分布的穿设在所述若干圆孔中的若干对第一连接件和两第二连接件;所述加热线圈由若干等长的加热电阻丝通过所述若干对第一连接件连接而成;所述加热线圈成一通路,两端分别在所述四层环形金属板外侧和内侧并分别通过一所述第二连接件连通电源。所述若干加热电阻丝长度适中,不仅便于安装,而且出现烧断情况时也只需更换一根,简便节约。
本实用新型的一较佳实施例中,所述第一反射板每段之间留有2毫米的间隙并通过所述固定组件固定,以此避免受热膨胀而产生挤压变形。
本实用新型的一较佳实施例中,所述第一反射板厚度为1.5~6毫米,所述第二反射板厚度为0.1~3毫米。因第一反射板离所述加热电阻丝最近,接收热量最大,为避免变形需具备一定厚度,同时为避免吸热过多又不能太厚;而所述第二反射板接收的热量相对要少,厚度相对要薄
本实用新型的一较佳实施例中,所述四层环形金属板的材质为钼、钨钼合金或者钼镧合金,优选更耐高温的钼镧合金,可进一步延长使用寿命。加热电阻丝材质为钨或者钼,优选加热效果更好的钨。
综上,与相比,所述第一反射板等分为三段,每一段相对于现有技术的一整个环形金属板面积变小,在剧烈的高低温变化下更不易变形,加上所诉四块环形金属板所用材质更耐高温,本实用新型的金属有机化学气相沉积电阻加热器的使用寿命得以有效延长。
以下将结合附图对本实用新型的构思、具体结构及产生的技术效果作进一步说明,以充分地了解本实用新型的目的、特征和效果。
附图说明
图1为MOCVD成膜设备示意图。
图2为MOCVD成膜设备中现有的加热器示意图。
图3为本实用新型的金属有机化学气相沉积电阻加热器立体图。
图4为本实用新型的金属有机化学气相沉积电阻加热器俯视图。
图5为本实用新型的金属有机化学气相沉积电阻加热器侧视图。
图6为图5的局部放大图。
图7为图3中四层环形金属板立体图。
图8为图7的局部放大图。
具体实施方式
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的