[实用新型]一种板式PECVD设备有效
| 申请号： | 201520719086.3 | 申请日： | 2015-09-16 |
| 公开（公告）号： | CN204982045U | 公开（公告）日： | 2016-01-20 |
| 发明（设计）人： | 袁中存;党继东;李栋 | 申请（专利权）人： | 盐城阿特斯协鑫阳光电力科技有限公司;苏州阿特斯阳光电力科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455 |
| 代理公司： | 苏州翔远专利代理事务所(普通合伙) 32251 | 代理人： | 陆金星 |
| 地址： | 224000 江苏省盐*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 板式 pecvd 设备 | ||
【权利要求书】：
1.一种板式PECVD设备，包括石墨框(2)、以及设于石墨框上方的特气管路(3)；所述石墨框内设有复数个承载硅片的方格孔(1)；其特征在于：所述特气管路上正对各个方格孔的特气孔(4)的数量相同。
2.根据权利要求1所述的板式PECVD设备，其特征在于：所述特气管路上正对各个方格孔的特气孔的数量为4~8个。
3.根据权利要求1所述的板式PECVD设备，其特征在于：所述方格孔正对的特气孔呈直线排列结构。
4.根据权利要求1所述的板式PECVD设备，其特征在于：所述方格孔正对的特气孔呈上下错位排列结构。
5.根据权利要求4所述的板式PECVD设备，其特征在于：所述相邻特气孔之间的错位间距为0.5~1.5mm。
6.根据权利要求1所述的板式PECVD设备，其特征在于：所述特气管路上特气孔的数量为23~35个。
7.根据权利要求6所述的板式PECVD设备，其特征在于：所述特气管路上特气孔的数量为30个。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
