[实用新型]一种真空阀门系统

说明书

技术领域

本实用新型实施例涉及真空技术领域，尤其涉及一种真空阀门系统。

背景技术

在半导体相关制造业，许多生产设备都会设有真空腔室，需要使用真空阀门系统对真空腔室进行密封与隔离。在现有的物理气相沉积(PhysicalVaporDeposition,PVD)设备中，如PVDSMD-1200CX设备中，传送室(TransferChamber)和溅射室(SputterChamber)之间会设置有真空阀门系统，起到不同真空之间的隔离，以及当溅射室破真空时，起到实现大气和真空之间的隔离。

图1是现有的一种PVD真空逆向阀门系统的正面结构示意图；图2是图1中的PVD真空逆向阀门系统的侧面结构示意图。图2中左虚线的左边为传送室，右虚线的右边为溅射室。如图1和图2所示，该PVD真空逆向阀门系统位于传送室和溅射室之间的通道内。真空逆向阀门系统在工作时，气缸1带动下基座3，使阀门主体上升，当气缸1内的第一导杆2带动卡轮(Rollcam)8及下基座3向上运动至凸轮10位置后，波纹管(Bellow)7收缩，随着阀门主体的继续上升，下基座3与凸轮10之间的相互作用以及卡轮8内部件的动作会使阀门主体发生倾斜，与第二导杆4连接的阀片5会靠向与溅射室连接的阀门框架(Valveframe)，直到阀片5上的密封圈(O-ring)6与阀门框架紧密贴合，阀门系统关闭。

上述现有的PVD真空逆向阀门系统存在以下问题：

1、存在机械摩擦与撞击。采用气缸1控制下基座3的上升和下降过程中，当气缸1到达行程时，滑块与气缸外壁的U型轨道底部硬接触后停止，对轨道底部冲击较大，且之后滑块继续以气缸外壁的U型轨道底部为支点运动，存在机械摩擦；当卡轮8使阀片5产生横向位移时，卡轮8上下部间设置有凸点9，由于金属之间硬接触，容易导致凸点9磨损，进而造成密封圈6磨损，产生压合不良，影响溅射室的真空度。

2、阀门主体的体积大且笨重，为设备维护带来诸多不便。由于阀门主体中包含卡轮8和下基座3等金属材质的部件，所以整个阀门主体的体积大且笨重，设备维护时不方便。例如，在更换密封圈6时、更换气缸1时、气管接头损坏时、波纹管7泄漏时，都会因阀门主体的庞大与笨重而影响维护效率，进而影响整个产线的生产效率。

实用新型内容

本实用新型的目的是提出一种真空阀门系统，以解决现有的真空阀门系统所存在的上述问题。

本实用新型提供的一种真空阀门系统，位于传送室和溅射室之间，包括阀门框架、阀门主体和动力缸；所述阀门主体包括第一阀片和至少一个磁铁对；所述至少一个磁铁对中的第一磁铁为电磁铁，第二磁铁为电磁铁或永磁铁；

所述动力缸与所述阀门主体固定连接，用于带动所述阀门主体做上下运动；

所述至少一个磁铁对中的第一磁铁和第二磁铁相对设置，所述电磁铁包括铁芯、电磁线圈和驱动电路，所述驱动电路与所述电磁线圈连接，用于通过改变电流方向来改变所述至少一个磁铁对中的一个电磁铁的磁极方向；

所述阀门框架包括传送室侧阀门框架和溅射室侧阀门框架；所述传送室侧阀门框架固定于传送室开口处，所述溅射室侧阀门框架固定于溅射室开口处，所述传送室开口与所述传送室相通，所述溅射室开口与所述溅射室相通；

所述第一阀片与所述至少一个磁铁对中的第一磁铁或第二磁铁固定连接，用于封闭所述溅射室开口。

进一步的，所述阀门主体还包括第二阀片；

所述第一阀片与所述至少一个磁铁对中的第一磁铁固定连接，用于封闭所述溅射室开口；所述第二阀片与所述至少一个磁铁对中的第二磁铁固定连接，用于封闭所述传送室开口。或者，所述第一阀片与所述至少一个磁铁对中的第二磁铁固定连接，用于封闭所述溅射室开口；所述第二阀片与所述至少一个磁铁对中的第一磁铁固定连接，用于封闭所述传送室开口。

进一步的，所述第一阀片和所述第二阀片上设置有密封圈。

进一步的，在所述至少一个磁铁对中的第一磁铁和第二磁铁吸合时，所述第二阀片到所述传送室侧阀门框架的距离，小于所述第一阀片到所述溅射室侧阀门框架的距离。

进一步的，所述阀门主体包括多个相同数量的永磁铁和电磁铁。

进一步的，所述阀门主体包括多个磁铁对；对应于所述多个磁铁对的多个第一磁铁在所述第一阀片上呈一字排列；对应于所述多个磁铁对的多个第二磁铁在所述第二阀片上呈一字排列。或者，对应于所述多个磁铁对的多个第二磁铁在所述第一阀片上呈一字排列；对应于所述多个磁铁对的多个第一磁铁在所述第二阀片上呈一字排列。