[实用新型]一种真空阀门系统

权利要求书

1.一种真空阀门系统，位于传送室和溅射室之间，其特征在于，包括阀门框架、阀门主体和动力缸；所述阀门主体包括第一阀片和至少一个磁铁对；所述至少一个磁铁对中的第一磁铁为电磁铁，第二磁铁为电磁铁或永磁铁；

所述动力缸与所述阀门主体固定连接，用于带动所述阀门主体做上下运动；

所述至少一个磁铁对中的第一磁铁和第二磁铁相对设置，所述电磁铁包括铁芯、电磁线圈和驱动电路，所述驱动电路与所述电磁线圈连接，用于通过改变电流方向来改变所述至少一个磁铁对中的一个电磁铁的磁极方向；

所述阀门框架包括传送室侧阀门框架和溅射室侧阀门框架；所述传送室侧阀门框架固定于传送室开口处，所述溅射室侧阀门框架固定于溅射室开口处，所述传送室开口与所述传送室相通，所述溅射室开口与所述溅射室相通；

所述第一阀片与所述至少一个磁铁对中的第一磁铁或第二磁铁固定连接，用于封闭所述溅射室开口。

2.根据权利要求1所述的真空阀门系统，其特征在于，所述阀门主体还包括第二阀片；

所述第一阀片与所述至少一个磁铁对中的第一磁铁固定连接，用于封闭所述溅射室开口；

所述第二阀片与所述至少一个磁铁对中的第二磁铁固定连接，用于封闭所述传送室开口。

3.根据权利要求1所述的真空阀门系统，其特征在于，所述阀门主体还包括第二阀片；

所述第一阀片与所述至少一个磁铁对中的第二磁铁固定连接，用于封闭所述溅射室开口；

所述第二阀片与所述至少一个磁铁对中的第一磁铁固定连接，用于封闭所述传送室开口。

4.根据权利要求2或3所述的真空阀门系统，其特征在于，所述第一阀片和所述第二阀片上设置有密封圈。

5.根据权利要求2或3所述的真空阀门系统，其特征在于，

在所述至少一个磁铁对中的第一磁铁和第二磁铁吸合时，所述第二阀片到所述传送室侧阀门框架的距离，小于所述第一阀片到所述溅射室侧阀门框架的距离。

6.根据权利要求2所述的真空阀门系统，其特征在于，所述阀门主体包括多个磁铁对；

对应于所述多个磁铁对的多个第一磁铁在所述第一阀片上呈一字排列；

对应于所述多个磁铁对的多个第二磁铁在所述第二阀片上呈一字排列。

7.根据权利要求3所述的真空阀门系统，其特征在于，所述阀门主体包括多个磁铁对；

对应于所述多个磁铁对的多个第二磁铁在所述第一阀片上呈一字排列；

对应于所述多个磁铁对的多个第一磁铁在所述第二阀片上呈一字排列。

8.根据权利要求1所述的真空阀门系统，其特征在于，所述动力缸为气缸。

9.根据权利要求1所述的真空阀门系统，其特征在于，所述至少一个磁铁对的下方设置有阀盖，用于支撑所述至少一个磁铁对，以及封闭所述传送室和所述溅射室之间的通道。

10.根据权利要求9所述的真空阀门系统，其特征在于，所述阀门框架上设置有限位感应器，用于感测所述阀盖的位置。