[实用新型]环保型硅片清洗装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种清洗装置，尤其涉及一种环保型硅片清洗装置。

背景技术

随着科学技术的发展，硅片的应用越来越广，在各种领域中都得到了应用。

半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。有机污染包括光刻胶、有机溶剂残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维。无机污染包括重金属金、铜、铁、铬等，严重影响少数载流子寿命和表面电导；碱金属如钠等，引起严重漏电；颗粒污染包括硅渣、尘埃、细菌、微生物、有机胶体纤维等，会导致各种缺陷。清除污染的方法有物理清洗和化学清洗两种。

硅片清洗时需要用到清洗装置，但是一般的清洗装置清洗效果比较差，硅片清洗后还要取出进行甩干，操作起来比较麻烦，而且清洗后的清洗液往往直接排放，污染环境。

实用新型内容

本实用新型发明的目的是提供一种环保型硅片清洗装置，该环保型硅片清洗装置解决了清洗装置清洗效果不好、清洗后甩干操作不方便和清洗液直接排放污染环境的问题。

为了实现上述发明目的，本实用新型的环保型硅片清洗装置包括支架、清洗槽、表面开有孔洞的转筒，清洗槽设置在支架上，清洗槽内设有转筒，清洗槽下方设有电机，电机输出端连接转轴，转轴延伸至清洗槽内，转轴与转筒连接，所述转筒内壁上设有若干个硅片存放装置，所述清洗槽上端设有进水管，清洗槽内设有温度传感器、加热装置、超声波发生器，清洗槽外侧设有控制器，温度传感器、加热装置分别与控制器连接，所述清洗槽底部连接出水管，出水管下端连接净化装置，净化装置下端连接排水管。

所述加热装置为加热管。

所述电机为正反转电机。

所述硅片存放装置与转筒内壁卡槽连接。

所述净化装置由上至下依次包括过滤层、分解层、杀菌层。

采用这种环保型硅片清洗装置，具有以下优点：

1、由于清洗槽内设有转筒，清洗槽下方设有电机，电机输出端连接转轴，转轴延伸至清洗槽内，转轴与转筒连接，这样在硅片清洗时，可以提高清洗效果，而且清洗完后，可以利用转筒进行甩干，操作起来非常方便；

2、由于清洗槽内设有温度传感器、加热装置，温度传感器、加热装置分别与控制器连接，当清洗槽内的清洗液温度高于或低于设定值范围时，由控制器控制加热装置是否工作，这样就能保证清洗液始终保持在最适宜的清洗温度，提高了清洗效果；而且使用了超声波发生器，进一步提高了清洗效果；

3、由于清洗槽底部连接出水管，出水管下端连接净化装置，净化装置下端连接排水管，这样可以对用过的清洗液进行净化处理，避免直接排放污染环境，而且可以净化处理后二次利用。

附图说明

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。

图1是本实用新型环保型硅片清洗装置的结构示意图。

其中有：1.支架；2.清洗槽；3.转筒；4.电机；5.转轴；6.硅片存放装置；7.进水管；8.超声波发生器；9.温度传感器；10.加热装置；11.控制器；12.出水管；13.净化装置；13.1.过滤层；13.2.分解层；13.3.杀菌层；14.排水管。

具体实施方式

图1所示环保型硅片清洗装置，包括支架1、清洗槽2、表面开有孔洞的转筒3，清洗槽2设置在支架1上，清洗槽2内设有转筒3，清洗槽2下方设有电机4，电机4输出端连接转轴5，转轴5延伸至清洗槽2内，转轴5与转筒3连接，所述转筒3内壁上设有若干个硅片存放装置6，所述清洗槽2上端设有进水管7，清洗槽2内设有温度传感器9、加热装置10、超声波发生器8，清洗槽2外侧设有控制器11，温度传感器9、加热装置10分别与控制器11连接，所述清洗槽2底部连接出水管12，出水管12下端连接净化装置13，净化装置13下端连接排水管14。

所述加热装置10为加热管。

所述电机4为正反转电机。

所述硅片存放装置6与转筒3内壁卡槽连接。

所述净化装置13由上至下依次包括过滤层13.1、分解层13.2、杀菌层13.3。