[实用新型]电镀系统

权利要求书

1.一种电镀系统，其包括一槽体主缸，其特征在于：所述电镀液循环机构包括至少一循环泵，及，与该循环泵分别对应连接且设置在所述槽体主缸内的循环出水管与循环入水管，该循环出水管与循环入水管上分别设有若干个循环出水孔与若干个循环入水孔，所述循环出水孔孔径和/或分布密度、循环入水孔孔径和/或分布密度均与其距离所述循环泵的远近成比例设置。

2.如权利要求1中所述电镀系统，其特征在于：所述循环出水孔和/或所述循环入水孔的孔径大小均与其和所述循环泵之间的距离成正比。

3.如权利要求1中所述电镀系统，其特征在于：所述循环出水孔的分布密度和/或所述循环入水孔的分布密度均与其和所述循环泵的距离成正比。

4.如权利要求1中所述电镀系统，其特征在于：多个所述循环出水孔或循环入水孔等间距分布，且所述循环出水孔或循环入水孔孔径大小与其和所述循环泵之间的距离成正比；或多个所述循环出水孔或循环入水孔孔径大小相等，所述循环出水孔或循环入水孔的分布密度与其和所述循环泵的距离成正比。

5.如权利要求1-4中任一项所述电镀系统，其特征在于：所述循环出水孔与所述循环入水孔分别呈360°环绕设置在所述循环出水管与循环入水管上。

6.如权利要求1-4中任一项所述电镀系统，其特征在于：相邻两个所述循环出水孔、相邻两个所述循环入水孔的分布间距均为1-20cm；所述循环出水孔与所述循环入水孔的孔径均为1-10mm。

7.如权利要求1中所述电镀系统，其特征在于：所述电镀系统进一步包括一下液位挡板，所述下液位挡板将所述槽体主缸分为第一液腔与第二液腔，第一液腔与第二液腔连接有一过滤机构，所述循环入水管与所述循环出水管设于所述第二液腔内，所述第二液腔上部为产品电镀区。

8.如权利要求7中所述电镀系统，其特征在于：所述循环出水管高于所述循环入水管，其中，所述循环出水管靠近所述产品电镀区，所述循环入水管远离所述产品电镀区。

9.如权利要求8中所述电镀系统，其特征在于：所述循环入水管设于所述第二液腔的底部。

10.如权利要求7-9中任一项所述电镀系统，其特征在于：所述电镀系统进一步包括与所述循环泵对应设置的至少一循环出水口及至少一循环入水口，所述循环出水口与所述循环出水管连接，所述循环入水口与所述循环入水管连接，循环入水口设于所述第二液腔的底部。