[实用新型]一种微孔真空吸盘工作台有效
申请号: | 201520533262.4 | 申请日: | 2015-07-22 |
公开(公告)号: | CN204927261U | 公开(公告)日: | 2015-12-30 |
发明(设计)人: | 李曼;单佳伟;吴芳芳 | 申请(专利权)人: | 李曼;单佳伟;吴芳芳 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683 |
代理公司: | 北京联创佳为专利事务所(普通合伙) 11362 | 代理人: | 郭防 |
地址: | 518103 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 微孔 真空 吸盘 工作台 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种微孔真空吸盘工作台,属于机械设备领域。
背景技术
划片刀用于精密加工,由于它的损耗速度非常快,因此需求量非常大。生产划片刀需要使用晶圆划片机,目前我国仅有少数的几家工厂拥有这种设备,在生产过程中发现,现有技术的晶圆划片机的工作台寿命较短,由于其结构的不合理通常1~6个月即会变形,在生产过程中,随温度变化也会变形加快。
实用新型内容
本实用新型的目的在于,提供一种微孔真空吸盘工作台,它能够解决现有技术的不足,提供一种结构更合理,使用寿命更长的工作台。
本实用新型的技术方案:一种微孔真空吸盘工作台,包括真空底座和微孔陶瓷吸面,真空底座的外壁上设有均布的安装孔,真空底座与微孔陶瓷吸面粘接在一起;真空底座的材质为因瓦合金。
前述的这种微孔真空吸盘工作台中,真空底座与微孔陶瓷吸面通过复合型化合物胶水粘接在一起。
前述的这种微孔真空吸盘工作台中,微孔陶瓷吸面的孔隙率为35%~45%。
前述的这种微孔真空吸盘工作台中,微孔陶瓷吸面的孔隙率为40%。
与现有技术相比,本实用新型将因瓦合金材质的真空底座与微孔陶瓷吸面通过复合型化合物胶水粘接在一起,能够有效提高工作台的性能。使用因瓦合金材质的真空底座能使产品具有稳定性强,精度高,膨胀系数小等优点,与微孔陶瓷吸面结合作为划片机上的工作面,可以极大的保证产品的精度以及结合后的平面度。采用微孔陶瓷吸面具有真空透气,吸附性好的优点,能够有效延长台面的使用寿命。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图。
附图中的标记为:1-真空底座,2-微孔陶瓷吸面,3-安装孔。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本专利技术作进一步的说明。
本实用新型的实施例1:如图1所示,一种微孔真空吸盘工作台,包括真空底座1和微孔陶瓷吸面2,真空底座1的外壁上设有均布的安装孔3,真空底座1与微孔陶瓷吸面2通过复合型化合物胶水粘接在一起;真空底座1的材质为因瓦合金。微孔陶瓷吸面2的孔隙率为40%。
本实用新型的实施例2:如图1所示,一种微孔真空吸盘工作台,包括真空底座1和微孔陶瓷吸面2,真空底座1的外壁上设有均布的安装孔3,真空底座1与微孔陶瓷吸面2通过复合型化合物胶水粘接在一起;真空底座1的材质为因瓦合金。微孔陶瓷吸面2的孔隙率为35%。
本实用新型的实施例3:如图1所示,一种微孔真空吸盘工作台,包括真空底座1和微孔陶瓷吸面2,真空底座1的外壁上设有均布的安装孔3,真空底座1与微孔陶瓷吸面2通过复合型化合物胶水粘接在一起;真空底座1的材质为因瓦合金。微孔陶瓷吸面2的孔隙率为45%。
本实用新型的使用方法:将微孔真空吸盘工作台放在清洁的晶圆划片机上,通过安装孔3固定好位置后,把烤好的蓝膜贴紧,启动划片机上的吸真空按钮开关后,微孔真空吸盘工作台被真空吸附在位置固定座上,此时如真空底座变形或是微孔陶瓷吸面不平,即可检测出来。如吸面平行度5um内,即可把产品放在真空吸盘上启运划片机运行按钮,进行切割划片工序。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造