[实用新型]一种微孔真空吸盘工作台有效
| 申请号： | 201520533262.4 | 申请日： | 2015-07-22 |
| 公开（公告）号： | CN204927261U | 公开（公告）日： | 2015-12-30 |
| 发明（设计）人： | 李曼;单佳伟;吴芳芳 | 申请（专利权）人： | 李曼;单佳伟;吴芳芳 |
| 主分类号： | H01L21/683 | 分类号： | H01L21/683 |
| 代理公司： | 北京联创佳为专利事务所(普通合伙) 11362 | 代理人： | 郭防 |
| 地址： | 518103 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 微孔 真空 吸盘 工作台 | ||
【权利要求书】：
1.一种微孔真空吸盘工作台，其特征在于：包括真空底座(1)和微孔陶瓷吸面(2)，真空底座(1)的外壁上设有均布的安装孔(3)，真空底座(1)与微孔陶瓷吸面(2)粘接在一起；真空底座(1)的材质为因瓦合金。
2.根据权利要求1所述的一种微孔真空吸盘工作台，其特征在于：真空底座(1)与微孔陶瓷吸面(2)通过复合型化合物胶水粘接在一起。
3.根据权利要求1所述的一种微孔真空吸盘工作台，其特征在于：微孔陶瓷吸面(2)的孔隙率为35％～45％。
4.根据权利要求3所述的一种微孔真空吸盘工作台，其特征在于：微孔陶瓷吸面(2)的孔隙率为40％。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于李曼;单佳伟;吴芳芳，未经李曼;单佳伟;吴芳芳许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201520533262.4/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：便器水箱蓄势排水系统
- 下一篇：一种同层排水装置
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
