[实用新型]常温多层ITO柔性基材单鼓立式连续气相沉积设备系统

权利要求书

1.一种常温多层ITO柔性基材单鼓立式连续气相沉积设备系统，其特征在于:所述常温多层ITO柔性基材单鼓立式连续气相沉积设备系统包括薄膜真空沉积系统和自控卷绕系统；

所述薄膜真空沉积系统包括两个分隔开的相互独立的低真空度腔体和高真空度腔体，所述低真空度腔体与高真空度腔体之间设置有隔板；

所述薄膜真空沉积系统与所述自控卷绕系统之间设置有卷绕机隔板；

所述自控卷绕系统包括卷绕机底座和自动控制机构，所述卷绕机底座上设置有多层分开的放料机构、自控张紧机构、同步卷绕机构、立式单鼓机构和收料机构；

所述放料机构、自控张紧机构、同步卷绕机构、立式单鼓机构、收料机构均与自动控制机构相连接；

所述放料机构为放料辊和放料及分开系统，所述收料机构为收料复合机构和收料辊；所述低真空度腔体和高真空度腔体内均设置有各自独立的相互分开的真空抽气系统；所述放料及分开系统、立式单鼓机构、同步卷绕机构、收料复合机构上均设置有各自独立的同步驱动系统；

所述低真空度腔体设置有可沿着水平轨道开合的第一移动门,所述高真空度腔体装设有第二移动门,所述低真空腔体内设置有可视实时监控系统。

2.根据权利要求1所述的常温多层ITO柔性基材单鼓立式连续气相沉积设备系统，其特征在于:所述立式单鼓机构上设置有立式单鼓，所述高真空度腔体内围绕着立式单鼓周围均布了多对立式中频平面的非平衡阴极，每对非平衡阴极均设置有自隔气的整体式的封闭屏蔽罩和各自独立的供气机构。

3.根据权利要求1所述的常温多层ITO柔性基材单鼓立式连续气相沉积设备系统，其特征在于:所述自控卷绕系统内部设置有表面处理机构。

4.根据权利要求1所述的常温多层ITO柔性基材单鼓立式连续气相沉积设备系统，其特征在于:所述自控卷绕系统内部设置有对分开后各层ITO柔性基材的卷绕进程有实时同步的自动纠偏机构。

5.根据权利要求1所述的常温多层ITO柔性基材单鼓立式连续气相沉积设备系统，其特征在于:所述自控卷绕系统的立式单鼓内还设置有薄膜沉积时的鼓表面的温度控制机构。

6.根据权利要求1至5任一项所述的常温多层ITO柔性基材单鼓立式连续气相沉积设备系统，其特征在于:所述第二移动门通过铰链与高真空度腔体铰接连接。