[实用新型]真空喷雾装置

权利要求书

1.一种真空喷雾装置，用于物理气相沉积，其特征在于，包括真空炉（10）、以及将材料源气化形成气雾并输送至所述真空炉（10）的喷雾气化炉（20），所述喷雾气化炉（20）与所述真空炉（10）相连接；所述喷雾气化炉（20）内部设有供所述气雾收容并混合的气雾室（201）。

2.根据权利要求1所述的真空喷雾装置，其特征在于，所述喷雾气化炉（20）包括炉体（21）、以及将所述材料源喷进所述炉体（21）内以形成气雾的气雾发生器（22）；所述气雾室（201）位于所述炉体（21）内部，所述气雾发生器（22）设置在所述气雾室（201）内。

3.根据权利要求2所述的真空喷雾装置，其特征在于，所述气雾发生器（22）设置在所述气雾室（201）的底部。

4.根据权利要求2所述的真空喷雾装置，其特征在于，所述气雾发生器（22）包括气雾喷枪。

5.根据权利要求2所述的真空喷雾装置，其特征在于，所述喷雾气化炉（20）还包括竖直设置在所述气雾室（201）内的螺旋混合器（23），所述螺旋混合器（23）和气雾室（201）之间形成有供所述气雾通过的螺旋通道。

6.根据权利要求2所述的真空喷雾装置，其特征在于，所述喷雾气化炉（20）还包括用于将载流气体输送至所述气雾室（201）内的进气孔（24），所述进气孔（24）设置在所述炉体（21）上并与所述气雾室（201）连通。

7.根据权利要求6所述的真空喷雾装置，其特征在于，所述喷雾气化炉（20）还包括用于过滤以净化所述载流气体的空气过滤机构（25），所述空气过滤机构（25）设置在所述炉体（21）内并位于所述进气孔（24）和气雾室（201）之间。

8.根据权利要求7所述的真空喷雾装置，其特征在于，所述进气孔（24）设置在所述炉体（21）底部。

9.根据权利要求1-8任一项所述的真空喷雾装置，其特征在于，该真空喷雾装置还包括将所述气雾从所述喷雾气化炉（20）输送至所述真空炉（10）的气雾管道（30）；所述气雾管道（30）连接在所述真空炉（10）和喷雾气化炉（20）之间。

10.根据权利要求9所述的真空喷雾装置，其特征在于，所述气雾管道（30）的两端分别连接在所述真空炉（10）和喷雾气化炉（20）的顶部。