[实用新型]一种基片载具

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种基片载具，尤其涉及一种倾斜角沉积蒸发系统中应用的基片载具。

背景技术

倾斜角沉积技术是一种将传统的薄膜真空沉积与可控的衬底转动结合起来的新颖、有效的薄膜制备方法。在传统的薄膜沉积技术中，粒子束沿着基片的法线方向入射到基片表面上(即正入射沉积)。而倾斜角沉积技术是将基片倾斜(或改变粒子束的入射方向)，使粒子束的入射方向与基片表面的法线成一定的夹角(即沉积角)，该方法生长出的薄膜具有倾斜的柱状结构。通过改变基片的倾斜角度和旋转速度可制备出各种形状的纳米结构薄膜，如螺旋状、倾斜柱状、之字形、C形和竖直的柱状结构等，这些薄膜因具有孔隙率高、比表面积大和各向异性等优越的性质，使其在渐变折射率减反膜、传感器、太阳能电池、光子晶体器件、光催化等方面得到广泛应用。

目前，应用的倾斜角沉积蒸发系统需要采用两个电机来控制基片的公转和自转以及倾斜角度，如图6所示，该结构的蒸发系统采用两个在腔体001内部的马达002、003，分别用于控制基片004的倾斜角度和旋转速度，基片位于蒸发源005的正上方，受到三维运动的限制，基片必需固定，并且采用电机来控制倾斜角度只能放置一个基片沉积，由于一个电机只能对一个基片进行倾斜角度或转动的控制，如需多片同时沉积，则需要增加电机的个数分别对基片加以控制，这就增加了蒸发设备的成本及其维护。此外，现有的基片载具对基片的固定结构复杂，存在不方便装载、固定不牢靠的问题。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型的目的在于提供一种基片载具，结构简单，操作方便，对基片固定牢固。

本实用新型提供的基片载具，用于蒸发沉积系统中，对基片进行装载，其特征在于，所述基片载具包括滚轮、支撑杆和支撑基座，所述滚轮和支撑基座分别连接在所述支撑杆的两端，所述支撑基座用于放置基片，所述滚轮用于在轨道上滚动。

优选地，所述支撑杆与所述支撑基座上放置的基片所在平面垂直。

优选地，所述滚轮、支撑基座和支撑杆之间均为固定连接。

优选地，所述滚轮和/或所述支撑基座设置成包括大小不同的可替换的一系列。

优选地，所述支撑杆的长度可以调节。

优选地，所述支撑杆包括第一支撑杆和第二支撑杆，所述第一支撑杆上设置有外螺纹或者内螺纹，所述第二支撑杆上设置有相对应的内螺纹或者外螺纹，通过调整所述内螺纹和外螺纹的配合来调整所述支撑杆的长度。

优选地，所述支撑杆包括第一支撑杆和第二支撑杆，所述第一支撑杆的一端套装在第二支撑杆的一端，通过调整所述第一支撑杆套装到所述第二支撑杆内的长度来调整所述支撑杆的长度。

优选地，所述支撑基座包括圆环和支架，所述支架包括多个分支，多个分支的一端相交，其交点位于所述圆环的纵向中心线上，并与所述圆环的圆心相距一定距离，该相交的端部与所述支撑杆的端部进行连接，多个分支的另外一端固定到所述圆环上。

优选地，所述支架的多个分支在圆环的周向上呈不均匀分布，在其中的两个分支之间形成有较大的开口。

优选地，在所述圆环上设置有基片固定部，该基片固定部在所述圆环的内缘沿所述圆环的径向向内延伸形成。

本实用新型提供的基片载具，包括滚轮、支撑杆和支撑基座，能够方便地对基片进行装载；本申请中，滚轮、支撑杆和支撑基座之间均为固定连接，滚轮的转动能够带动支撑基座的转动，从而方便实现对基片的均匀沉积；通过替换不同大小的滚轮、支撑座，可以实现对不同大小的基片进行沉积，同时还可调整基片的沉积倾斜角；并且，本申请中的基片载具能够方便地放置基片，对基片固定牢固稳定，非常利于对基片的沉积的进行。

附图说明

通过以下参照附图对本实用新型实施例的描述，本实用新型的上述以及其他目的、特征和优点将更为清楚，在附图中：

图1为本实用新型倾斜角沉积蒸发系统整体结构示意图(其中外壳和真空蒸发器未示出)；

图2为本实用新型倾斜角沉积蒸发系统截面图；

图3为本实用新型倾斜角沉积蒸发系统中的基片载具整体结构示意图；

图4为图3中的A-A截面图；

图5为本实用新型倾斜角沉积蒸发系统倾斜蒸发时的沉积角原理图；

图6为现有技术中的倾斜角沉积蒸发系统结构示意图。

具体实施方式

以下将参照附图更详细地描述本实用新型的各种实施例。在各个附图中，相同的元件采用相同或类似的附图标记来表示。为了清楚起见，附图中的各个部分没有按比例绘制。