[实用新型]镀膜后硅片缺陷检测分选设备有效
| 申请号： | 201520427485.2 | 申请日： | 2015-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN204866575U | 公开（公告）日： | 2015-12-16 |
| 发明（设计）人： | 孙智权;童钢;赵不贿;张千;周奇 | 申请（专利权）人： | 镇江苏仪德科技有限公司 |
| 主分类号： | B07C5/34 | 分类号： | B07C5/34;B07C5/36;B07C5/38 |
| 代理公司： | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人： | 张华蒙 |
| 地址： | 212013 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 镀膜 硅片 缺陷 检测 分选 设备 | ||
1.镀膜后硅片缺陷检测分选设备，其特征在于：包括传送带(15)，该传送带(15)依次贯穿设置在下料机械装置(1)和暗箱(3)的下方，再经第一单轴机械臂(6)和第二单轴机械臂(7)的下方穿过直至与合格硅片传送装置(8)相连接，所述的传送带(15)设置在金属横梁上，金属横梁固定在机柜(10)上；在所述的下料机械装置(1)内设有用于放置镀膜后硅片(14)的花篮(2)；所述的暗箱(3)通过支架设置在机柜(10)上，在所述的暗箱(3)内的顶部设有配合使用的工业相机(11)和镜头(12)，在镜头(12)的下方设有圆顶光源(13)，在所述的暗箱(3)正下方放置传送带(15)的金属横梁上镶嵌设置白色背景板(4)，在白色背景板(4)上设有光电传感器(16)；其中，在所述的机柜(10)的顶部设有配合暗箱(3)和机柜(10)使用的工控机(5)。
2.根据权利要求1所述的镀膜后硅片缺陷检测分选设备，其特征在于：所述的传送带(15)从暗箱(3)底部的支架上穿过，传送带(15)的上表面贴近暗箱(3)的底部。
3.根据权利要求2所述的镀膜后硅片缺陷检测分选设备，其特征在于：所述的合格硅片传送装置(8)与硅片收集盒(9)相连。
4.根据权利要求1～3中任意一项所述的镀膜后硅片缺陷检测分选设备，其特征在于：所述的传送带(15)为白色无标识的传送带(15)。
5.根据权利要求1～3中任意一项所述的镀膜后硅片缺陷检测分选设备，其特征在于：在所述的第一单轴机械臂(6)和第二单轴机械臂(7)上均分别设有两个双向吸盘。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于镇江苏仪德科技有限公司，未经镇江苏仪德科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201520427485.2/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
