[实用新型]化学反应釜自动上料装置

权利要求书

1.一种化学反应釜自动上料装置，包括设置在釜体侧面的机架，所述机架上设有滑轨，所述滑轨包括倾斜设置的上升段和设置在上升段顶端的弯曲段，所述滑轨上滑移连接有料斗，所述机架上设有驱动料斗在滑轨上往复滑动的上料驱动部件，其特征在于：所述料斗底部滑移连接有推板，所述推板与料斗的内壁始终抵接，所述料斗底部设有驱动推板滑动的卸料驱动部件。

2.根据权利要求1所述的化学反应釜自动上料装置，其特征在于：机架包括四根支脚，所述支脚底部设有用于调节支脚高度的升降装置。

3.根据权利要求1所述的化学反应釜自动上料装置，其特征在于：所述滑轨上设有传动链，所述料斗固定设置在传动链上，所述上料驱动部件包括驱动传动链滑动的上料电机。

4.根据权利要求1所述的化学反应釜自动上料装置，其特征在于：所述卸料驱动部件包括设置在料斗底部的气缸，所述气缸的活塞杆与推板连接。

5.根据权利要求2所述的化学反应釜自动上料装置，其特征在于：所述升降装置包括与支脚螺纹连接的螺柱，所述螺柱设置在支脚底面。

6.根据权利要求1所述的化学反应釜自动上料装置，其特征在于：所述推板与料斗的内壁抵接的面上设有环形密封圈，所述环形密封圈始终与料斗的内壁抵接。