[实用新型]一种透光低辐射膜层结构有效
申请号: | 201520367163.3 | 申请日: | 2015-06-01 |
公开(公告)号: | CN204869851U | 公开(公告)日: | 2015-12-16 |
发明(设计)人: | 王洋 | 申请(专利权)人: | 惠州易晖能源科技股份有限公司 |
主分类号: | B32B9/00 | 分类号: | B32B9/00;B32B15/04;B32B3/22;B32B3/24;B32B17/06 |
代理公司: | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人: | 蒋剑明 |
地址: | 516006 广东省惠州市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 透光 辐射 结构 | ||
技术领域
本实用新型属于环保节能技术领域,具体涉及一种用于透光基材的透光低辐射膜层结构。
背景技术
低辐射玻璃(Low-E玻璃)是低辐射镀膜玻璃的简称,通过在玻璃基材上镀覆反射红外线的膜层,起到阻隔热辐射透光的作用,被称为绿色、节能、环保玻璃,近年来被广泛运用于建筑、汽车玻璃等领域。
最常见的低辐射玻璃镀膜是通过磁控管辅助的磁控溅射技术将反射红外线的膜层沉积镀覆在玻璃基材上。反射红外线的膜层可采用贵金属膜层,材料可为银、金或者铜,一般采用银膜。贵金属膜层的特点是会造成透光性低、反光高,但容易受到腐蚀或者机械磨损,所以需要在贵金属膜层上下镀制电介质膜层,其作用是通过光学干涉原理,起到提高基材透光率、降低反光率,调节外观色泽的作用,并提高耐化学腐蚀和机械摩擦力。且贵金属膜层和玻璃基材之间的电介质膜层还可以增加贵金属膜层和基材的附着能力,改善贵金属膜层成核结膜条件。
传统离线低辐射镀膜是用磁控溅射的方法在透光基材衬底(通常为玻璃衬底)上依次连续沉积电介质膜层、贵金属膜层和电介质膜层。各膜层一般为多晶态。这类膜层组合可使波长范围为350~800纳米的可见光透光,平均透过率在30%~80%,同时使热传导所需的近红外光(波长范围为1~5微米)有效反射(平均反射率大于30%),从而实现有效阻挡透光基材两侧的热传导,起到采光和节能的双重功效。为进一步增加隔热功能,制造中还可采用增加贵金属膜层厚度,或者采用两组甚至三组以上膜层组合相叠加的方式以更有效的阻隔热传导。增加膜层厚度或数量虽然可以提高近红外光反射率,但同时可见光透过率会随着下降。
申请号201120413731.0的实用新型专利公开了一种双银镀膜夹层玻璃,通过在玻璃基片上依次设置聚乙烯醇缩丁醛的薄膜层和双银镀膜的玻璃层,该结构阻挡了多达30%的太阳辐射,阻热效果好。但该双银镀膜夹层玻璃的可见光透过率性能较差。
申请号201410719739.8的发明专利申请公开了一种高透过低辐射的双银镀膜玻璃,包括依次在玻璃基板上沉积底层电介质层、第一红外反射功能层、第一阻挡层、中间电介质层、第二红外反射功能层、第二阻挡层和顶层电介质层,所述第一红外反射功能层和第二红外反射功能层均由Ag形成。该发明申请为了增加红外光反射率和可见光的透过率,采用了双银膜层结构。而从说明书的内容看出两层银层的厚度都较小,与此同时,增设了两层阻挡层,以达到保证具有高透过率和低辐射率的效果。
申请号201310315178.0的发明专利申请公开了一种高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃,依次包括:玻璃基板、底层电介质层、第一阻挡层、第一功能层、第二阻挡层、中间电介质层、第三阻挡层、第二功能层、第四阻挡层及顶层电介质层。该申请提到普通双银LOW-E玻璃相比单银LOW-E玻璃具有更低的遮阳系数,但存在可见光透过率低、产品性能不稳定、后续加工困难的缺陷。而该申请的解决方法是采用新颖的架构膜系,增设阻挡层,使得产品的可见光透过率高。
申请号201210562713.8的发明专利申请公开了一种高性能双银低辐射玻璃,其包括玻璃基片及依次形成于该玻璃基片上的第一低面电阻透明导电层、第一银层、第一保护层、第二低面电阻透明导电层、第二银层、第二保护层、第三低面电阻透明导电层与顶部保护层。该发明专利申请提到增加银层厚度可以降低膜层的面电阻从而提升隔热性能,然而,两个银层的厚度增加是有限度的,银层太厚会降低低辐射玻璃的可见光透过率,消弱玻璃透光的作用。为了解决该技术问题,该发明专利申请的解决办法是采用低面电阻透明导电层以降低辐射率,提高双银低辐射玻璃的隔热功能,并且不会影响到双银低辐射玻璃透光率。
因增加银层厚度会导致可见光透过率下降,从现有技术可知,为得到更高的近红外光反射率,常采用双层或多层银层的方式以提高近红外光反射率。现有技术采用改进膜层组合的方式虽可以在保证透光率的基础上提高近红外光反射率,但成本高,且膜层数多,加工复杂。
实用新型内容
为了克服现有技术的缺点与不足,本实用新型的目的在于提供一种透光低辐射膜层结构。
本实用新型的目的通过下述技术方案实现:
一种透光低辐射膜层结构,所述透光低辐射膜层结构镀覆于透光基材表面,所述透光低辐射膜层结构包括贵金属膜层、第一电介质膜层和第二电介质膜层,所述贵金属膜层下表面镀覆第一电介质膜层,所述贵金属膜层上表面镀覆第二电介质膜层,其中,所述贵金属膜层分散开设有若干孔洞。
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