[实用新型]一种透光低辐射膜层结构

权利要求书

1.一种透光低辐射膜层结构，所述透光低辐射膜层结构镀覆于透光基材表面，所述透光低辐射膜层结构包括贵金属膜层、第一电介质膜层和第二电介质膜层，所述贵金属膜层下表面镀覆第一电介质膜层，所述贵金属膜层上表面镀覆第二电介质膜层，其特征在于：所述贵金属膜层分散开设有若干孔洞。

2.根据权利要求1所述的一种透光低辐射膜层结构，其特征在于：所述孔洞的孔径小于500纳米。

3.根据权利要求2所述的一种透光低辐射膜层结构，其特征在于：所述孔洞的孔径为100～500纳米。

4.根据权利要求1所述的一种透光低辐射膜层结构，其特征在于：所述透光基材为透光玻璃材料、透光晶体材料或透光高分子有机化合物材料；所述第一电介质膜层和第二电介质膜层相同或不同地为氮化物层或金属氧化物层；所述贵金属膜层为银层、金层或铜层。

5.根据权利要求4所述的一种透光低辐射膜层结构，其特征在于：所述氮化物为氮化钛、氮化锆、氮化铪或氮化硅；所述金属氧化物为氧化锌、二氧化钛、氧化铟或二氧化锡。

6.根据权利要求1或2所述的一种透光低辐射膜层结构，其特征在于：所述第一电介质膜层的厚度为10～100纳米，所述贵金属膜层的厚度为1～50纳米，第二电介质膜层的厚度为10～100纳米。