[实用新型]一种用于光通信的1490纳米通带滤光片

权利要求书

1.一种用于光通信的1490纳米通带滤光片，其特征在于，包括：

以Bk7玻璃为原材料的基板(1)、以交替的五氧化二钽和二氧化硅为镀膜材料的第一镀膜层(2)、以交替的五氧化二钽和二氧化硅为镀膜材料的第二镀膜层(3)，所述基板(1)位于所述第一镀膜层(2)和第二镀膜层(3)之间；

所述第一镀膜层(2)由内而外依次由五氧化二钽层与二氧化硅层交替沉积共87层，其中包括43层五氧化二钽层与44层二氧化硅层，即最内层及最外层均为五氧化二钽层，最内层的五氧化二钽层直接沉积在所述基板(1)的一侧表面；所述第二镀膜层(3)由内而外依次由五氧化二钽层与二氧化硅层交替沉积共30层，其中包括15层五氧化二钽层与15层二氧化硅层，即最内层为五氧化二钽层并直接沉积在所述基板(1)的另一侧表面，最外层为二氧化硅层。

2.根据权利要求1所述的一种用于光通信的1490纳米通带滤光片，其特征在于，所述第一镀膜层(2)由内而外交替的五氧化二钽层与二氧化硅层厚度依次为：五氧化二钽层222nm、二氧化硅层221nm、五氧化二钽层174.5nm、二氧化硅层1019.7nm、五氧化二钽层174.5nm、二氧化硅层254.9nm、五氧化二钽层174.5nm、二氧化硅层254.9nm、五氧化二钽层174.5nm、二氧化硅层254.9nm、五氧化二钽层174.5nm、二氧化硅层254.9nm、五氧化二钽层174.5nm、二氧化硅层509.8nm、五氧化二钽层174.5nm、二氧化硅层254.9nm、五氧化二钽层174.5nm、二氧化硅层254.9nm、五氧化二钽层174.5nm、二氧化硅层254.9nm、五氧化二钽层174.5nm、二氧化硅层254.9nm、五氧化二钽层174.5nm、二氧化硅层254.9nm、五氧化二钽层174.5nm、二氧化硅层1019.7nm、五氧化二钽层174.5nm、二氧化硅层254.9nm、五氧化二钽层174.5nm、二氧化硅层254.9nm、五氧化二钽层174.5nm、二氧化硅层254.9nm、五氧化二钽层174.5nm、二氧化硅层254.9nm、五氧化二钽层174.5nm、二氧化硅层254.9nm、五氧化二钽层174.5nm、二氧化硅层1019.7nm、五氧化二钽层174.5nm、二氧化硅层254.9nm、五氧化二钽层174.5nm、二氧化硅层254.9nm、五氧化二钽层174.5nm、二氧化硅层254.9nm、五氧化二钽层174.5nm、二氧化硅层254.9nm、五氧化二钽层174.5nm、二氧化硅层254.9nm、五氧化二钽层174.5nm、二氧化硅层1019.7nm、五氧化二钽层174.5nm、二氧化硅层254.9nm、五氧化二钽层174.5nm、二氧化硅层254.9nm、五氧化二钽层174.5nm、二氧化硅层254.9nm、五氧化二钽层174.5nm、二氧化硅层254.9nm、五氧化二钽层174.5nm、二氧化硅层254.9nm、五氧化二钽层174.5nm、二氧化硅层1019.7nm、五氧化二钽层174.5nm、二氧化硅层254.9nm、五氧化二钽层174.5nm、二氧化硅层254.9nm、五氧化二钽层174.5nm、二氧化硅层254.9nm、五氧化二钽层174.5nm、二氧化硅层254.9nm、五氧化二钽层174.5nm、二氧化硅层254.9nm、五氧化二钽层174.5nm、二氧化硅层509.8nm、五氧化二钽层174.5nm、二氧化硅层254.9nm、五氧化二钽层174.5nm、二氧化硅层254.9nm、五氧化二钽层174.5nm、二氧化硅层254.9nm、五氧化二钽层174.5nm、二氧化硅层254.9nm、五氧化二钽层174.5nm、二氧化硅层1019.7nm、五氧化二钽层174.5nm、二氧化硅层139.1nm、五氧化二钽层287.9nm。

3.根据权利要求1所述的一种用于光通信的1490纳米通带滤光片，其特征在于，所述第二镀膜层(3)由内而外交替的五氧化二钽层与二氧化硅层厚度依次为：五氧化二钽层125.4nm、二氧化硅层142.5nm、五氧化二钽层112.8nm、二氧化硅层183.4nm、五氧化二钽层150.2nm、二氧化硅层213nm、五氧化二钽层124.3nm、二氧化硅层207.2nm、五氧化二钽层121.3nm、二氧化硅层194.1nm、五氧化二钽层125.3nm、二氧化硅层222.27nm、五氧化二钽层144.1nm、二氧化硅层203.4nm、五氧化二钽层120.7nm、二氧化硅层197.15nm、五氧化二钽层137.4nm、二氧化硅层218.3nm、五氧化二钽层124.79nm、二氧化硅层191.4nm、五氧化二钽层134.9nm、二氧化硅层215.08nm、五氧化二钽层114nm、二氧化硅层220.3nm、五氧化二钽层145.8nm、二氧化硅层168.3nm、五氧化二钽层114nm、二氧化硅层180.4nm、五氧化二钽层148.5nm、二氧化硅层331.79nm。